[实用新型]气液分布器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种气液两相混合和分布的装置领域，具体地，涉及一种用于含杂质较多，高粘度的液体的气液分布器。

背景技术

气液分布器，例如广泛用于固定床加氢反应器中的气液分布器，将气体和液体均匀分布到下方的催化剂床层上，促进催化剂的充分利用和反应热量的均匀分布，而气液的不良分布会导致沟流或者短路，降低了催化剂的利用率，造成催化剂床层的局部过热和结焦从而引起催化剂的过早失活，还会影响产品的质量。目前加氢技术正向着大型化和产品高质量方向发展，这对气液分布器分配性能的要求将更加严格。

目前我国应用较多的泡罩式分布器，依靠从泡帽条缝进入的高速气流相携带液相进入分布器的下降管，再将充分混合后的气液两相分配到下层的催化剂层上，但是其需要较大的气相负荷，且对高粘度的液体适应性差。当反应器加工性质较差的重质原料时，因分配板上液相底层的液体缺少流动，其携带的杂质会在分配板上沉积，尤其在分配板泡罩以下的位置，实际中经常发现泡罩被固体沉淀物包围的现象。随着时间的积累，泡帽和下降管中间狭小的环形空间会减少，甚至堵死，导致混相物流的分配不均甚至装置被迫停工。另一方面，泡罩式分布器通常在下降管下部设置碎流板，仅通过在碎流板上开孔洞来碎化气液两相物流。当对重质油进行分配时，由于碎流板结构上的原因，其没有进一步强化气、液两相的混合和破碎，没有明显改善两相的扩散的效果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种气液分布器，该气液分布器的气、液两相的操作弹性高，可以适用于低气相负荷，以及粘度大、流动性差的液体介质。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种气液分布器，该气液分布器包括泡帽和位于该泡帽下方的下降管，该下降管包括上段管和位于上段管下方的下段管，所述上段管上固定有所述泡帽，所述下段管用于安装到分配板上，所述泡帽的内壁与所述上段管的外壁之间形成有环隙，其中，所述上段管的内壁上还设置有气体喷射部，该气体喷射部上形成有孔径从上至下先逐渐变小后逐渐变大的气相喷射锐孔，所述下段管上形成有液体引流孔。

优选地，所述气相喷射锐孔包括相互对接的第一上圆台孔和第一下圆台孔。

优选地，所述气相喷射锐孔的最小孔径和所述下降管的内径之比为0.15-0.5，所述第一上圆台孔的锥顶角度为25°-75°，所述第一下圆台孔的锥底角度为25°-75°。

优选地，所述液体引流孔设置在所述下降管的下部，且靠近所述分配板。

优选地，所述液体引流孔为多个，且多个所述液体引流孔沿所述下段管的周向间隔设置。

优选地，每个所述液体引流孔和所述下段管的内壁相切。

通过上述技术方案，在上段管的内壁上还设置有孔径从上至下先逐渐变小后逐渐变大的气体喷射部，在所述下段管上形成有液体引流孔，因此，液体不需要由气体携带，而是通过下降管内、外侧的压差经液体引流口被抽吸至下降管的内部，从而使得气、液两相的操作弹性高，适用于低气相负荷的情况，以及适应于粘度大、流动性差的液体介质，另外，本实用新型提供的气液分布器还具有结构简单，易于加工制造、可以节省投资的优点。

本实用新型的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型优选实施方式提供的气液分布器的剖面结构示意图；

图2是本实用新型优选实施方式提供的下降管2安装到分配板6上的结构示意图；

图3是沿图2中的D-D剖面所剖得的剖面结构示意图；

图4是本实用新型优选实施方式提供的雾化喷射部的剖面结构示意图；

图5是图4的仰视结构示意图。

附图标记说明

1泡帽2下降管21上段管

210气体喷射部2100气体喷射锐孔2101第一上圆台孔

2102第一下圆台孔22下段管220液体引流孔

3连接板4环隙5雾化喷射部

51第二上圆台孔52第二下圆台孔520导流凹槽

6分配板

A气相区B液相区C混相区

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。