[实用新型]回转体抛光生产线用垂直抛光装置有效
申请号: | 201520675272.1 | 申请日: | 2015-09-02 |
公开(公告)号: | CN204913576U | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
发明(设计)人: | 黄建青 | 申请(专利权)人: | 杭州斯比特机电有限公司 |
主分类号: | B24B29/04 | 分类号: | B24B29/04;B24B41/00 |
代理公司: | 杭州赛科专利代理事务所(普通合伙) 33230 | 代理人: | 傅剑舟 |
地址: | 310023 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 回转 抛光 生产线 垂直 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种回转体抛光生产线用垂直抛光装置,属于抛光机械技术领域。
背景技术
对于回转体外侧壁的抛光,现有技术的回转体抛光多采用卧式抛光方法,但是对于类似于不锈钢饭缸等有底的回转体工件来说,卧式抛光在自动化生产的时候,上下料复杂,造成整个抛光过程效率较低,同时抛光过程中采用整体式抛光,当抛光轮长时间使用后,抛光一致性会变差,因此需要对现有技术的抛光技术方案进行改进,降低上下料的难度,缩短时间,提高抛光的效率,同时提高抛光的均匀性,提高抛光质量。
发明内容
本实用新型的目的在于解决现有技术的不足,提供一种回转体抛光生产线用垂直抛光装置。该垂直抛光装置能有效降低上下料难度,缩短时间,提高抛光效率、也能够有效提高抛光的均匀性,提高抛光质量。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
回转体抛光生产线用垂直抛光装置,上述垂直抛光装置包括机架,上述机架内设有驱动回转体工件的夹持回转机构,抛光机构,抛光机构的底部设有调节抛光深度的水平调节机构;上述夹持回转机构包括竖直向设置的治具电机,治具电机的治具电机主轴与治具相连,治具张紧并固定上述回转体工件;抛光机构包括与回转体工件轴线平行的抛光轮,抛光轮通过抛光机头与抛光电机相连。
作为优选,上述水平调节机构包括带动抛光机构水平运动的滑动台,上述滑动台底部设有蜗杆,上述蜗杆通过涡轮和齿轮组与调节电机相连并由其驱动。
作为优选,上述滑动台上还设有与蜗杆平行的导向导轨。
作为优选,上述抛光机头与抛光电机之间还设有皮带和皮带轮。
作为优选,上述抛光轮外还设有防护罩,上述防护罩的一侧设有吸尘管。
作为优选,上述抛光机头内还设有驱动抛光轮上下移动的伸缩轴;且上述垂直抛光装置还包括垂直抛光控制器,上述垂直抛光控制器分别与治具电机、抛光电机、调节电机电连接并分别控制运转。
有益效果
本实用新型的有益效果是:本实用新型具有效降低上下料难度,缩短时间,提高抛光效率、也能够有效提高抛光的均匀性,提高抛光质量的优点。
附图说明
图1是本实用新型的正视图。
图2是本实用新型的俯视图。
图3是本实用新型的立体图。
图中:1、机架,2、回转体工件,3、治具电机,4、治具电机主轴,5、治具,6、抛光轮,7、抛光机头,8、抛光电机,9、蜗杆,10、调节电机,11、导向导轨,12、防护罩,13、吸尘管。
具体实施方式
下面通过具体实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步的具体说明。
实施例:
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:回转体抛光生产线用垂直抛光装置,垂直抛光装置包括机架1,机架1内设有驱动回转体工件2的夹持回转机构,抛光机构,抛光机构的底部设有调节抛光深度的水平调节机构。
夹持回转机构包括竖直向设置的治具电机3,治具电机的治具电机主轴4与治具5相连,治具5张紧并固定回转体工件2。
抛光机构包括与回转体工件轴线平行的抛光轮6,抛光轮外还设有防护罩12,防护罩的一侧设有吸尘管13。抛光轮6通过抛光机头7与抛光电机8相连,抛光机头7与抛光电机8之间还设有皮带和皮带轮;抛光机头7内还设有驱动抛光轮3上下移动的伸缩轴。
水平调节机构包括带动抛光机构水平运动的滑动台,滑动台底部设有蜗杆9,蜗杆9通过涡轮和齿轮组与调节电机10相连并由其驱动。滑动台上还设有与蜗杆9平行的导向导轨11。
且垂直抛光装置还包括垂直抛光控制器,垂直抛光控制器分别与治具电机3、抛光电机8、调节电机10电连接并分别控制运转。
具体实施时,回转体工件2放入治具5张紧且治具电机3带动治具5,回转体工件2作旋转运动。
抛光电机8带动抛光轮6旋转(由于抛光机头7内设有伸缩轴,使得抛光轮6可以上下运动),水平调节机构拖动抛光机构整体往治具5方向运动进行抛光(抛光力度可以通过调节电机的电流控制)
以上所述的实施例只是本实用新型的一种较佳的方案,在不超出权利要求所记载的技术方案的前提下还有其它的变体及改型。
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