[实用新型]一种旋转式镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型属于机械技术领域，涉及一种旋转式镀膜机。

背景技术

真空镀膜机在装饰品、建筑玻璃、汽车玻璃和平板显示器等领域都具有广泛的应用，真空镀膜机可以分为真空离子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等。

授权公告号为CN203613254U的中国实用新型专利公开了一种真空镀膜机，包括真空罩和用于使真空罩内部保持真空状态的真空系统，真空罩内设置有伞架和蒸发源，伞架包括能够周向转动的转盘和若干个工件架，工件架分别与转盘通过各自转轴一相连，工件架沿转盘周向呈伞状分布，该真空镀膜机还包括能使工件架随着转盘周向转动的同时绕转轴一的中心线转动的驱动机构。

上述镀膜机的蒸发源将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到工件架处，附着在温度较低的待镀膜工件上，形成薄膜，该镀膜机的不足之处在于，蒸发源位于真空罩的底部，工件架位于真空罩的顶部，导致工件(或基片)距离蒸发源的距离较远，因此会出现镀膜效果不佳的问题。

发明内容

本实用新型针对现有的技术存在的上述问题，提供一种旋转式镀膜机，本实用新型所要解决的技术问题是：如何提高镀膜机对工件的镀膜效果。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：

一种旋转式镀膜机，该镀膜机包括真空罩、电阻蒸发源、磁控溅射源、等离子源、工件架和能够使真空罩内部保持真空状态的真空装置，其特征在于，所述磁控溅射源和等离子源均固定在真空罩的内壁上，所述工件架设置在真空罩内，所述工件架具有底座，底座固定在真空罩的底部，所述电阻蒸发源固定在底座上，所述底座转动设置有齿轮一，所述齿轮一上转动设置有转轴一，所述转轴一上固定有齿轮二，所述底座为圆形且底座的外侧面上设置有与齿轮二相啮合的轮齿。

本实用新型的工作原理是：

镀膜加工之前，先将待镀膜工件定位在基片架上，基片架上固定有一根圆轴杆，通过圆轴杆与转轴一之间的插接配合，将基片架放置在工件架上，之后真空装置将真空罩内部抽至真空，并使其保持真空状态。镀膜加工开始后，齿轮一带动基片架作圆周转动的同时转轴一带动基片架自转，蒸发源将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后扩散到基片架的工件表面，同时真空罩内壁上的磁控溅射源将镀膜材料喷射出来，附着在工件上，形成厚薄均匀的薄膜。

在上述的一种旋转式镀膜机中，所述工件架还包括顶盖，所述齿轮一和顶盖之间设置有支杆，所述顶盖上设置有通孔，所述通孔与转轴一正对。支杆固定在齿轮一上，顶盖固定在支杆的顶端，顶盖上设置有通孔，通孔与转轴一正对，基片架的圆轴杆的下端与转轴一插接配合的同时，圆轴杆的上端与通孔相配合，使基片架直立放置，基片架在转动的过程中不易晃动。

在上述的一种旋转式镀膜机中，所述转轴一为若干根，所有转轴一沿齿轮一的周向均匀分布在齿轮一上，所述通孔的数量与转轴一的数量相同。转轴一为若干根，例如可以是8-12根，所有转轴一沿齿轮一的周向均匀分布在齿轮一上，可以合理利用空间，平衡工件架的受力。

在上述的一种旋转式镀膜机中，所述转轴一具有端面，所述端面上设置有凹槽一，所述凹槽一具有两个相互平行的侧面，两个侧面对称设置。转轴一的端面上设置有凹槽一，只要在基片架的圆轴杆的下端面上设置与该凹槽一相配合的凸台，就可以方便的实现圆轴杆与转轴一之间的配合，使基片架直立放置在工件架上，凹槽一的两个侧面对称设置，使圆轴杆与转轴一配合之后，圆轴杆的轴线与转轴一的轴线重合，平衡转轴一的受力。

在上述的一种旋转式镀膜机中，所述真空罩包括左壳体和右壳体，所述左壳体和右壳体通过销轴转动连接，所述磁控溅射源固定在左壳体的内壁上，所述等离子源固定在右壳体的内壁上，所述底座固定在左壳体的底部。真空罩包括左壳体和右壳体，左壳体和右壳体通过销轴转动连接，右壳体是活动的，通过转动右壳体，可以实现对真空罩的打开与关闭，方便对工件的放置和取出。

与现有技术相比，本实用新型的优点如下：

1、本实用新型采用磁控溅射和加热蒸发相结合的方式镀膜，且磁控溅射设置在真空罩的内壁上，距离工件很近，能够带来更好的镀膜效果。

2、本实用新型的电阻蒸发源为直立式的，其高度与基片架的高度接近，使基片架上任何高度的工件与电阻蒸发源的距离保持一致，因此，能够达到良好的镀膜效果。

3、本实用新型的齿轮一上可以均匀分布8-12根转轴，即可以同时放置8-12个基片架，增加了可以加工的工件数量，提高了生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。