[实用新型]一种磁控溅射装置

权利要求书

1.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括至少两个靶位、传送机构、第一驱动机构以及第二驱动机构；

设置至少两个具有靶材和磁体的靶位，相邻两个所述靶位之间具有一定间距，所述靶材固定于所述靶位上，并所述磁体相对所述靶材以第二速度运动形成移动磁场且所述移动磁场具有一定功率；

所述第一驱动机构设置于所述装置的至少一端，所述传送机构铺设于所述靶位的下方，所述工件放置于所述传送机构上表面，所述第一驱动机构驱动所述传送机构，所述传送机构以第一速度匀速传送所述工件穿过所述移动磁场，所述传送机构的运动方向为第一方向，与所述第一方向相反的方向为第二方向；

所述磁体在所述第一方向与所述第二方向之间往复运动于所述靶材内，所述磁体完成一次往复运动的时间为一个周期；

各所述靶位的所述移动磁场的初始位置互补设置。

2.如权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述磁体往复运动过程中，所述功率设置为恒定。

3.如权利要求2所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述第一速度恒定，设定所述间距及所述周期，使所述间距的长度与所述工件在二分之一周期内经过的距离的奇数倍相等。

4.如权利要求2所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述间距恒定，设定所述第一速度及所述周期，使所述间距的长度与所述工件在二分之一周期内经过的距离的奇数倍相等。

5.如权利要求2所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述周期恒定，设定所述第一速度及所述间距，使所述间距的长度与所述工件在二分之一周期内经过的距离的奇数倍相等。

6.如权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于，所述磁体往复运动过程中，所述磁体沿第一方向运动产生第一功率，所述磁体沿第二方向运动产生第二功率，且所述第一功率与所述第二功率不同。

7.如权利要求6所述的磁控溅射装置，其特征在于，设置所述第一功率与所述第二功率的比值等于第一速度与第二速度之和比第一速度与第二速度之差。