[实用新型]一种适用于葫芦的激光绘图装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及工艺品加工行业技术领域，具体涉及一种适用于葫芦的激光绘图装置。

背景技术

目前，激光雕刻技术主要用于对木制品和皮革等产品雕刻花纹，由于激光每移动一次雕刻的力度都很小，所以要使激光机不断的前后、左右移动才能绘制出一幅完整的图案，木雕上的花纹图案是事先通过激光绘图机内的软件设置好的，也就是说整个雕刻过程是一直连续的，雕刻时一般都是将工艺瓶固定放置在工作台上，有时候要对工艺品的不同部位进行雕刻，在对工艺品更换部位时都需要将激光头关闭，用手去移动工艺品才行，由于激光雕刻主要是依靠极高的温度进行灼烧的方式使图案成型的，如果关闭激光仪不及时，冒然用手去移动工艺品会非常的危险，且雕刻一个工艺品要多次启动、关闭激光仪也会非常的麻烦。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种适用于葫芦的激光绘图装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提供以下技术方案：一种适用于葫芦的激光绘图装置，包括激光绘图仪、工作台和平板，激光绘图仪设置在工作台的上方，所述工作台上设有两条横向滑槽，平板的底部设有与上述两条横向滑槽相适合的滚珠，平板上设有用于放置工艺品的凹槽，凹槽的两内侧面上均设有弹性体，所述工作台上还设有用于对滚珠进行限位的限位槽，所述激光绘图仪设置在限位槽的正上方，工作台右部沿其纵向上也设有两条纵向滑槽，所述纵向滑槽、横向滑槽均与限位槽相通，且限位槽的深度大于横向滑槽和纵向滑槽的深度，上述平板的右侧和前侧均设有手拉环。优选的，所述平板为金属板。

优选的，所述限位槽和横向滑槽之间设有弧形过渡段，限位槽与纵向滑槽之间也设有弧形过渡段。

优选的，所述平板的底部均匀设有四个滚珠。

本实用新型与现有技术相比具有的有益效果是：其中，本实用新型中设置了用来放置葫芦工艺品的凹槽，凹槽内放有弹性体，这样便于对不同大小的葫芦进行定位，使其稳定的放置在平板内，在拉动平板的时候也不会发生移动；其中，工作台上设有用于对平板进行限位的限位槽和用于使平板滑动的纵向滑槽和横向滑槽，若需要对加工中的葫芦进行翻边、位移的时候，只需通过手拉环拉动平板，使其沿着滑槽滑出，再由人工调整一下葫芦的姿势即可，这里在对葫芦进行调位的时候是远离激光仪的，就能够避免操作人员被激光损伤，同时也不用关闭激光仪，使其一直都处于工作的状态。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构图；

图2为本实用新型中工作台的结构图；

图3为本实用新型中平板的主视图。

图中标号为：1-工作台，2-横向滑槽，3-纵向滑槽，4-平板，401-凹槽，5-滚珠，6-手拉环，7-弹性体，8-限位槽，9-激光绘图仪。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1、图2和图3可知，一种适用于葫芦的激光绘图装置，包括激光绘图仪9、工作台1和平板4，激光绘图仪9设置在工作台1的上方，所述工作台1上设有两条横向滑槽2，平板4的底部设有与上述两条横向滑槽2相适合的滚珠5，平板4上设有用于放置工艺品的凹槽401，凹槽401的两内侧面上均设有弹性体7，所述工作台1上还设有用于对滚珠5进行限位的限位槽8，所述激光绘图仪9设置在限位槽8的正上方，工作台1右部沿其纵向上也设有两条纵向滑槽3，所述纵向滑槽3、横向滑槽2均与限位槽8相通，且限位槽8的深度大于横向滑槽2和纵向滑槽3的深度，上述平板4的右侧和前侧均设有手拉环6；所述平板4为金属板；所述限位槽8和横向滑槽2之间设有弧形过渡段，限位槽8与纵向滑槽3之间也设有弧形过渡段；所述平板4的底部均匀设有四个滚珠5。

其中，本实用新型中设置了用来放置葫芦工艺品的凹槽401，凹槽401内放有弹性体7，这样便于对不同大小的葫芦进行定位，使其稳定的放置在平板4内，在拉动平板4的时候也不会发生移动；其中，工作台1上设有用于对平板4进行限位的限位槽8和用于使平板4滑动的纵向滑槽3和横向滑槽2，若需要对加工中的葫芦进行翻边、位移的时候，只需通过手拉环6拉动平板4，使其沿着滑槽滑出，再由人工调整一下葫芦的姿势即可，这里在对葫芦进行调位的时候是远离激光仪的，就能够避免操作人员被激光损伤，同时也不用关闭激光仪，使其一直都处于工作的状态。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。