[实用新型]一种具有再生液处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统有效
申请号: | 201520694154.5 | 申请日: | 2015-09-09 |
公开(公告)号: | CN204898083U | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 韦建敏;吴梅;赵兴文;张晓蓓;张小波 | 申请(专利权)人: | 成都虹华环保科技股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 再生 处理 功能 酸性 蚀刻 废液 循环 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及废液处理系统,特别是一种具有再生液处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统。
背景技术
酸性蚀刻液是一种用于印制电路板精细线路制作、多层板内层制作的蚀刻液。现代电子工业的高速发展,电路板生产企业迅猛增加,此类企业的工业废水对环境污染比较严重,而此类工业废水中铜离子含量很高,因此由线路板生产企业产生的废水、废液所造成严重的环境污染和资源浪费问题日益受到社会的普遍关注。为了避免浪费以及保护环境,需要对酸性蚀刻液进行回收再利用。
酸性蚀刻旧液的再生主要通过化学、电化学方法将其转变为合适比重、透明和高氧化还原电位的酸性溶液,以维持印制电路板的稳定、快速的蚀刻。其中化学再生是酸性氯化铜蚀刻液再生的主要方法,其原理是通过排放一定比例的蚀刻旧液(高比重),加入一定量的子液(低比重),或者在补加一定量的水,来调节蚀刻液的比重。同时子液中的氧化剂将一价铜离子氧化为二价铜离子,或者单独加入氧化剂,提高蚀刻液氧化还原电位,从而恢复蚀刻液的原有性能。常见的氧化剂有空气、氧气、氯气、臭氧、次氯酸钠、氯酸钠、双氧水等。但是总铜不断增加,最终需要对外排除一部分的酸性蚀刻液以维持一定的总铜浓度,不仅污染环境,还会造成大量铜和酸的浪费;电化学再生法,是一种在线的再生方法,通过电解可以产出具有商业价值的金属铜,但同时会产生氯气,形成具有污染的尾气,不仅污染环境还造成浪费。
中国专利申请号为201020567155.0的专利,公开了一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统,该系统用于在线处理酸性蚀刻液,受到蚀刻线生产时间的限制,只能与蚀刻线同步生产,并且其系统内部的废气处理装置,消耗了系统内部的氯元素,虽然实现了环保,但导致资源的浪费,使得系统内部氯元素流失,需要额外添加酸液以保证蚀刻液的效益。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种具有再生液处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种具有再生液处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统,包括蚀刻液处理系统和再生液循环系统,蚀刻液处理系统包括蚀刻生产线、母液储存罐、电解槽和溶解吸收系统,电解槽包括阴极槽、膜和阳极槽母液储存罐、阴极槽、阳极槽、溶解吸收系统依次连通,蚀刻生产线分别与母液储存罐和溶解吸收系统连通,溶解吸收系统与蚀刻生产线连通;
再生液循环系统包括再生液储罐和再生液处理系统,阳极槽、再生液储罐、再生液处理系统和蚀刻生产线依次连通。
所述的膜为隔膜、阳离子膜或阴离子膜。
所述的阴极槽通过电解得到电解铜。
所述的电解槽内设有离子浓度检测装置。
所述的再生液处理系统内设有酸度检测装置。
所述的该系统内的装置以及管道都使用耐酸、耐碱、耐腐蚀的材料制成。
本实用新型具有以下优点:
1.该系统用于处理酸性蚀刻废液,能够在提取金属铜的同时使蚀刻液再生循环回用,实现蚀刻液处理能够离线进行,提高了处理效率,有利于通过合理地分配资源使得蚀刻与蚀刻液处理达到动态平衡,避免资源浪费,实现可持续生产;
2.通过采用酸浓缩技术将再生液分离成高酸度的溶液和低酸度的溶液,高酸度的溶液直接回到蚀刻线上循环再用,低酸度的溶液配制成氧化剂后回到蚀刻线上添加,整个循环过程中无废液增量产生,实现真正的零排放。
3.通过本实用新型可以回收电解氯气,与产线联动时氯气去溶解吸收系统与亚铜离子发生反应生成二价铜离子,再生成蚀刻液直接回到产线循环利用,若没有与蚀刻产线联动,电解氯气可以制成含氯的有价产品,以此可以避免污染环境、浪费资源,实现氯元素和水在系统内的循环,减少额外添加添加剂或氧化剂,降低了生产成本,节约了资源。
附图说明
图1为一种具有再生液处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统的结构示意图;
图中,1-蚀刻生产线,2-母液储存罐,3-阴极槽,4-膜,5-阳极槽,6-溶解吸收系统,9-电解铜,10-再生液储罐,11-再生液处理系统。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的描述,本实用新型的保护范围不局限于以下所述:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都虹华环保科技股份有限公司,未经成都虹华环保科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520694154.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型氟化电解槽
- 下一篇:用于布纱的真空镀膜机