[实用新型]一种适用于PU太空革无车缝工艺的转印膜有效
申请号: | 201520781969.7 | 申请日: | 2015-10-10 |
公开(公告)号: | CN205044334U | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 陈旭斌 | 申请(专利权)人: | 陈旭斌 |
主分类号: | B41M5/382 | 分类号: | B41M5/382;B41M5/41;B32B27/06;B32B27/40 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 邱奕才;周郑奇 |
地址: | 515000 广东省汕头市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 pu 太空 革无车 缝工 转印膜 | ||
1.一种适用于PU太空革无车缝工艺的转印膜,其特征在于,所述转印膜包括基材层、粘合层、颜色层、补充层、发泡层、贴合层和离型层;所述基材层、粘合层、颜色层、补充层、支撑层、贴合层自上而下粘合;所述离型层附着在贴合层下表面;所述支撑层采用聚氨酯层;所述聚氨酯层硬度在10-25度之间,厚度0.3mm-0.8mm,熔点在170℃-200℃之间。
2.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述基材层采用PET膜,所述基材层厚度在0.8mm-1.8mm之间。
3.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述粘合层采用丙烯酸脂聚合物。
4.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述颜色层采用高熔点PU油墨层;所述高熔点PU油墨层厚度在0.02mm-0.03mm之间,熔点范围为160℃-190℃之间。
5.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述补充层采用低熔点PU油墨层,所述低熔点PU油墨层厚度在0.02mm-0.03mm,熔点范围为120℃-140℃之间。
6.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述支撑层采用高熔点聚氨酯层;所述高熔点聚氨酯层硬度在10-25度之间,厚度0.3mm-0.8mm,熔点在170℃-200℃之间。
7.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述贴合层采用低熔点聚氨酯层,所述低熔点聚氨酯层厚度在0.15mm-0.35mm之间,熔点范围在110℃-130℃之间。
8.根据权利要求1所述转印膜,其特征在于,所述离型层覆盖有硅油。
9.根据权利要求8所述转印膜,其特征在于,所述离型层厚度在0.05mm-0.1mm。
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