[实用新型]改进型花盆有效

专利信息
申请号: 201520785387.6 申请日: 2015-10-12
公开(公告)号: CN205005584U 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 覃荣章 申请(专利权)人: 覃荣章
主分类号: A01G9/02 分类号: A01G9/02;A01G9/04
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 罗晓聪
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 改进型 花盆
【说明书】:

技术领域:

本实用新型涉及花盆技术领域,特指一种改进型花盆。

背景技术:

花盆是种花用的一种器皿,为口大底端小的倒圆台或倒棱台形状。种植花卉的花盆形式多样,大小不一。花卉生产者或养花人士可以根据花卉的特性和需要以及花盆的特点选用花盆,根据制作材料不同,可以分为很多种。一般来讲,为了避免由于过多的浇水,导致水留在花盆底部而产生烂根的现象,花盆的底部都会开设有出水孔,并且一般会在花盆地下放着一接水盘,通过该接水盘将水滴接住,确保环境的干净卫生。

但是,由于花盆是随意地放置于底盘上的,很可能由于轻微的外力或者风吹,边使花盆从底盘上掉落(花落),这样底盘上的水易被洒出,影响环境,另外,也容易绕指花盆的损坏,更重要的是容易使栽培的花卉损伤。

综上所述,本人提出一种改进型花盆。

实用新型内容:

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种改进型花盆。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用了下述技术方案:改进型花盆,包括:用于放置土壤的花盆以及与花盆配合的用于接水的底盘,所述的花盆底部和底盘的端面上分别设置有磁性吸附件,通过该磁性吸附件令花盆和底盘吸附定位;所述的花盆底部向下凸设形成有一凸圈,凸圈的下端面凹设形成有供磁性吸附件安装的第一槽体;所述的底盘上设置有与凸圈匹配的凸环,凸环端面开设有第二槽体,第二槽体内亦设置有磁性吸附件。

进一步而言,上述技术方案中,所述的凸圈的下端面间隔地设置有所述的第一槽体,所述的凸环其端面上对应于第一槽体处设置有第二槽体,第一槽体和第二槽体处设置有磁性相反的磁性吸附件。

进一步而言,上述技术方案中,所述的凸环其端面上于两第二槽体之间设置有滚珠,滚珠的二分之一显露于凸环上。

进一步而言,上述技术方案中,所述的凸圈下端面于两第一槽体之间设置有供滚珠嵌入的圆形凹槽。

进一步而言,上述技术方案中,所述的凸环其内壁向上延伸以形成一凸壁,令凸环的内壁高于外壁。

进一步而言,上述技术方案中,所述的凸环其凸壁的外表面与凸圈的内表面相贴合。

采用上述技术方案后,本实用新型与现有技术相比较具有如下有益效果:

1、本实用新型于花盆底部的凸圈和底盘的凸环上均对应地设置有磁性吸附件,通过该磁性吸附件令花盆可稳固地放置于底盘上,防止摔落;

2、本实用新型于凸环上设置有滚珠,通过该滚珠能够让花盆正确地安装,确保凸圈上的磁性件和凸环上的磁性件相对应,避免错位而影响磁性,导致花盆的放置不稳固;

3、本实用新型于凸环的内壁设置有一凸壁,通过该凸壁可防止底盘上的水过多而从磁性件间溢出,影响磁性。

附图说明:

图1是本实用新型的主视图;

图2是本实用新型中花盆的仰视图;

图3是本实用新型中底盘的俯视图。

具体实施方式:

下面结合具体实施例和附图对本实用新型进一步说明。

见图1-3所示,改进型花盆,包括:用于放置土壤的花盆1以及与花盆1配合的用于接水的底盘2,所述的花盆1底部和底盘2的端面上分别设置有磁性吸附件3,通过该磁性吸附件3令花盆1和底盘2吸附定位;花盆1底部设置有出水口;所述的花盆1底部向下凸设形成有一凸圈11,凸圈11的下端面凹设形成有供磁性吸附件3安装的第一槽体12;所述的底盘2上设置有与凸圈11匹配的凸环21,凸环21端面开设有第二槽体22,第二槽体22内亦设置有磁性吸附件3。

所述的凸圈11的下端面间隔地设置有所述的第一槽体12,所述的凸环21其端面上对应于第一槽体12处设置有第二槽体22,第一槽体12和第二槽体22处设置有磁性相反的磁性吸附件3,凸环21其端面上于两第二槽体22之间设置有滚珠4,滚珠4的二分之一显露于凸环21上,凸圈11下端面于两第一槽体12之间设置有供滚珠4嵌入的圆形凹槽41。所述的凸环21其内壁向上延伸以形成一凸壁23,令凸环21的内壁高于外壁。凸环21其凸壁23的外表面与凸圈11的内表面相贴合。上述的磁性吸附件3为磁铁。

在使用时,将花盆1放置于底盘2上,凸圈11支撑于凸环21上,通过滚珠4和圆形凹槽41的配合,使凸圈11上的磁性吸附件3和凸环21上的磁性吸附件3对应,使吸附力达到最大,使花盆1稳定地放置于底盘2上。另外,安装后,凸壁23的外壁贴合凸圈11的内表面,有效地防止积水从凸圈11和凸环21之间溢出。

当然,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并非来限制本实用新型实施范围,凡依本实用新型申请专利范围所述构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均应包括于本实用新型申请专利范围内。

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