[实用新型]非接触式晶圆连续处理装置

权利要求书

1.一种非接触式晶圆连续处理装置，用以搬运一进行连续工艺处理的待处理晶圆，其特征在于，该非接触式晶圆连续处理装置包含有：

一工作平台，包含有一进料端、一远离该进料端的出料端、多个设置于该进料端与该出料端之间且提供一上浮气体的第一气孔、多个设置于该进料端与该出料端之间且提供一侧浮气体的第二气孔以及多个自该进料端排列至该出料端的工艺处理区域，该上浮气体沿一纵方向喷出，该侧浮气体沿一推动方向喷出，该纵方向与该推动方向相交一夹角；

一与该多个第一气孔连接的第一气体供应单元；

一与该多个第二气孔连接的第二气体供应单元；以及

多个对应设置于该多个工艺处理区域上方以对该待处理晶圆进行处理的处理单元。

2.根据权利要求1所述的非接触式晶圆连续处理装置，其特征在于，该工作平台还包含有一设置于该出料端以抵挡该待处理晶圆的挡止件。

3.根据权利要求2所述的非接触式晶圆连续处理装置，其特征在于，该工作平台还包含有一设置于该挡止件且朝该进料端提供一侧向气体的第三气孔，该侧向气体沿一横方向喷出。

4.根据权利要求3所述的非接触式晶圆连续处理装置，其特征在于，还包含有一与该第三气孔连接的第三气体供应单元。

5.根据权利要求4所述的非接触式晶圆连续处理装置，其特征在于，还包含有一电性连接于该第一气体供应单元、该第二气体供应单元以及该第三气体供应单元的控制单元。

6.根据权利要求1所述的非接触式晶圆连续处理装置，其特征在于，还包含有一设置于该工作平台相邻于该出料端的感测元件。