[实用新型]一种用于大平面产品加工的热转印机有效

专利信息
申请号: 201520791211.1 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN204977770U 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 杨卫力 申请(专利权)人: 浙江威士达印务有限公司
主分类号: B41F16/00 分类号: B41F16/00;B41F13/02
代理公司: 台州市中唯专利事务所(普通合伙) 33215 代理人: 潘浙军
地址: 318020 浙江省台州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 平面 产品 加工 热转印机
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种热转印机,具体为一种用于大平面产品加工的热转印机。

背景技术

热转印是一项非常成熟的印刷工艺,其预先把彩色图案印在耐热基材薄膜上,而后再配合专用的转印机,以烫印的方式将基材薄膜上的图案转印到产品的表面,其印刷的图案具有层次丰富、色彩鲜艳、千变万化、色差小的特点,能很好地满足设计者的要求,且适合现代化大批量生产的需要。

传统热转印机结构一般都包括基座、导膜装置、主机架和转印机头,所述导膜装置由放膜架和收膜架组成且分别位于基座的两侧,所述主机架固连定位于基座的后侧,所述机头安装在主机架的连接臂下方。在此,以上结构中的主机头在加工中的位置是固定不动的,在加工大平面产品的转印过程中,通过产品和基材薄膜的同步移动来进行转印操作,这种结构设置和操作方式存在很大不足,一方面因受限于设备上工作台的大小和高度限制,产品的上下料都比较困难,且产品加工中的移动范围非常有限,缺少操作和调整的腾挪空间;另一方面整个转印过程是在产品和基材薄膜的同步移动状态下进行的,需时时保证两者转印时的有效贴合,但基材薄膜在移动中容易被拉伸变形,这给实际操作带来了很大难度,容易发生转印图案变形或起皱,很难确保产品质量的稳定性。

发明内容

针对上述问题,本发明设计了一种用于大平面产品加工的热转印机,其通过转印机头的水平移动来实现大平面产品的转印加工,具有加工效率高,转印质量稳定,操作空间大,上下料方便的特点。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

一种用于大平面产品加工的热转印机,包括基座、导膜装置和主机架,所述导膜装置由放膜架和收膜架组成,两者分别位于基座的两侧,其特征在于:所述基座在放膜架和收膜架之间设置有水平工作平台;所述主机架通过一横向移动装置设置在基座的后侧,整个主机架可在横向移动装置的带动下左右往复移动。

进一步的,上述横向移动装置包括设置在基座上的至少两道横向布局的直线导轨,直线导轨上设置有滑板,滑板的上固定设置着所述的主机架,滑板的底部连接一丝杆,所述丝杆在平推电机的带动下转动而带动滑板沿直线导轨滑动。

进一步的,上述水平工作平台下方设置有平台升降装置,该平台升降装置包括至少两个间隔设置的气缸,气缸的伸缩杆顶端与水平工作平台固连在一起。

进一步的,上述水平工作平台下方设置有平台升降的稳定装置,该稳定装置包括带导向孔的导向板和设置在水平工作平台下端面的若干导柱,导向板位于水平工作平台下方并通过若干定位柱与基座连接,各所述导柱活动穿过导向板上对应位置的导向孔。

进一步的,上述放膜架上设置有转印膜张紧装置,该张紧装置包括张紧电机、磁粉离合器、摩擦主动轮、摩擦从动轮和测量滚轮,所述张紧电机定位在放膜架的侧边,张紧电机的输送轴通过磁粉离合器连接摩擦主动轮;所述摩擦从动轮和测量滚轮与放膜架的第一根滚轴同轴设置,摩擦从动轮的外圆周与摩擦主动轮的外圆周相抵连接。

进一步的,上述主机架中设置有竖向滑槽,竖向滑槽中设置有一可沿其上下移动的连接臂;连接臂的尾部设置有一竖向丝杆,竖向丝杆的上端设置有手动调节手轮或通过传动齿轮与升降电机连接;所述连接臂的前端设置着一竖向气缸,气缸下部的伸缩杆上设置着转印机头,转印机头的尾端通过同步带传动机构由主机架上的动力电机连接。

采用以上结构的热转印机,水平工作平台保持不动,主机架在横向移动装置的带动下往复进行水平左右移动。

加工中,位于水平工作平台上的大平面承印物和基材薄膜密贴后保持不动,而由主机架的移动来带动转印机头由基座的一端移往另一端进行转印加工。因承印物和基材薄膜始终不动,不仅能从根本上避免基材薄膜的拉伸变形问题,同时能保证承印物和基材薄膜的完美贴合,能准确地将基材薄膜上的图案完美贴合地转印到大平面的承印物上,确保图案不变形不打皱,保证产品加工质量的稳定。

在此,考虑到上下料操作的需要,本发明的水平工作平台设置成可升降结构,在上下料时下沉水平工作平台进行操作,能为实际操作提供很大的腾挪空间。

附图说明

图1、本发明的立体结构示意图;

图2、本发明另一视角的立体结构示意图;

图3、本发明水平工作平台的立体结构示意图。

具体实施方式

如图1-2所示,一种用于大平面产品加工的热转印机,包括基座1、导膜装置和主机架3,所述导膜装置由放膜架21和收膜架22组成,两者分别位于基座1的两侧。

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