[实用新型]一种阵列基板及显示装置有效
申请号: | 201520791311.4 | 申请日: | 2015-10-14 |
公开(公告)号: | CN204945589U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 于春崎;柳发霖;李林;庄崇营;何基强;雷国奖 | 申请(专利权)人: | 信利半导体有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 邓义华;陈卫 |
地址: | 516600 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括基板和依次由下往上覆盖在基板上的第一金属层、第一绝缘层、第二金属层,第二绝缘层、透明导电层,其特征在于,所述第一绝缘层上刻蚀有至少第一过孔,所述第一金属层和第二金属层通过第一绝缘层上的第一过孔短接;所述第二绝缘层上刻蚀有至少第二过孔,所述第二金属层和导电层通过第二绝缘层上的第二过孔短接;所述第一金属层和透明导电层通过第二金属层为媒介,实现短接。
2.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘层和第二绝缘层的过孔完全重叠,或者部分重叠,或者完全不重叠。
3.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘层和第二绝缘层的过孔的刻蚀方法是干法刻蚀,或者是湿法刻蚀。
4.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述基板为玻璃基板,或其它具有光学属性的透明基板。
5.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述第一金属层为栅极金属层,主要材料为铝、铜、钼、铬之一或其它导电材料。
6.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘层为栅绝缘层,主要材料是氮化硅、氧化硅、氧化铝之一或其它绝缘材料。
7.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述第二金属层为源极和漏极金属层,主要材料为铝、铜、钼、铬之一或其它导电材料。
8.根据权利要求1所述阵列基板,其特征在于,所述第二绝缘层为钝化层,主要材料是氮化硅、氧化硅、氧化铝之一或其它绝缘材料。
9.一种显示装置,包括下偏光片、阵列基板、液晶材料、彩色滤光层和上偏光片,其特征在于,所述阵列基板为权利要求1至7中任一阵列基板。
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