[实用新型]真空吸盘结构改良

说明书

技术领域

本实用新型是有关一种真空吸盘结构改良，尤指一种内部装设一多孔隙 元件的真空吸盘结构改良。

背景技术

目前许多产业对于真空吸盘的需求量相当大，在液晶面板产业、太阳能 电池领域、电子与半导体工业、晶圆或是玻璃产业…等都经常使用到真空吸 盘进行材料、半成品或成品的搬运及移动；一般而言，真空吸盘是通过接头 接通一真空设备，然后与待移物如玻璃、面板、晶圆…等接触，接着启动真 空设备将内部空气抽吸形成负压，进而将待移物通过该真空吸盘内部负压吸 牢，使其固定于真空吸盘表面，即可开始搬送待移物；当待移物搬移至目的 地，再通过该真空设备提供平稳的气体进入真空吸盘内，使真空吸盘内由负 气压变成正气压，待移物即可脱离该真空吸盘，完成搬运的过程。

现有的真空吸盘是通过一锥形盘或波纹状盘，于顶端开设一抽气孔，通 过真空设备抽气压缩将吸盘内部形成一负压，将待移物经由外界大气压力顶 置吸附于该吸盘表面，进而通过机械手臂或人工搬运该吸盘以达到移动该待 移物的目的；但是，随着科技进步以及材料科学的发展，许多待移物的厚度 极薄，当真空设备抽气压缩吸附该待移物时，造成待移物吸附部位形成凹陷、 造成吸附痕迹、甚至导致待移物破裂；目前常见的吸盘改良是包含一锥形盘， 其内侧设置有多个平均分布的凸粒，该锥形盘锥尖处包含有一抽气管，使用 时，是将一真空设备的吸气嘴密合顶接该抽气管，将吸盘的锥形盘与待移物 接触所形成的气室内部空气抽离，使该气室形成一负压状态，通过大气压力 将待移物吸附。

于是，便有相关业者调整修正后研发吸盘改良构造，请参阅图1，该吸 盘为一锥形盘，于锥尖处延伸设有一抽气孔，该锥形盘与待移物接触贴合时 将于该锥形盘中形成一气室，该抽气孔是贯穿该锥形盘的锥尖处，使锥形盘 与待移物接触后通过一真空设备连接该抽气孔将气体排出使该气室形成一 负压状态，其中，该锥形盘为一较缓的锥形体，而盘面的边缘处，则使其变 薄；且该锥形盘内侧设有多个平均分布且接触面积较大的凸块，而凸块因为 与偏光板接触的面积较大，故其所形成的气室相对的变小；通过上述的构造 设计，当吸盘将待移物吸附固定住时，会先通过真空设备密合的顶接于抽气 孔将吸盘的锥形盘与偏光板接触时所形成之气室内的空气抽离，使该气室呈 一负压状态，进而将待移物通过大气压力吸附于该吸盘；然，由于锥形盘系 呈一较缓的锥形体，而锥形盘面边缘处较薄易变形，使锥形盘内侧与偏光板 接触时，所产生的气室较小，使真空设备只需要一点吸力，就可将偏光板吸 住，进而达到不会在待移物上留下吸痕之功效。

当前，通过该吸盘是可轻易的吸附待移物，但在锥形盘面边缘处由于较 薄易变形，容易导致弯折翘起损坏率高，且于该吸盘内凸块与接触面碰触后 容易造成与气室间沟槽的缝隙而留下轻微的吸附痕迹，若吸附较薄型的待移 物，即有可能形成深刻吸痕或造成待移物的损坏。

实用新型内容

鉴于上述的缺失及需求，本案创作人潜心研思，设计创设，一再试验、 修改，乃创设出一种具有强力吸附能力且不会于待移物表面留下吸痕的真空 吸盘结构改良。

因此，为达到上述实施目的，本创作人乃研拟相关真空吸盘结构改良制 作实施方式，包括有一吸盘主体、一接头及一多孔元件；其中，该吸盘主体 内开设有一容置空间，该吸盘主体的底缘与待移物表面是可贴合使该容置空 间形成一气室；该接头是沿设于该吸盘主体上端并开设有一通孔向下延伸至 该容置空间，吸附时，是通过一真空设备连接于该接头，通过该真空设备抽 气将该气室内部气体抽出形成一负压状态，外部大气压力压制抵掣该待移 物，使待移物吸附贴合于该吸盘主体上；该吸盘主体内装设有一多孔元件， 使该多孔元件镶置于该容置空间中。

当前，本实用新型为达目的所运用的技术手段及其构造特征在于：该吸 盘主体，是呈一中空容置形状，上端是延设有一接头，于该吸盘主体内部镶 置有一多孔元件，该多孔元件下端为一平滑表面，且平行于该吸盘主体底部 边缘。