[实用新型]一种应用于半导体扩散片生产的酸碱废水处理系统

说明书

技术领域

本实用新型属于半导体领域，具体涉及一种应用于半导体扩散片生产的酸 碱废水处理系统。

背景技术

半导体工业是一个十分依赖水资源的行业，也是高耗水的行业，尤其在水 资源有限的情形下，限水、缺水对半导体生产企业的营运产生巨大压力。因此， 对半导体生产企业节约用水的研究与实践，有助于提升用水效益，降低用水成 本。目前，节约用水、中水回用、废水的回收利用已成为半导体业者应对缺水 危机的重要措施，特别是废水的回收利用，既能减少对水资源的需求，又能降 低生产成本，同时也减少对环境的污染。

在半导体扩散片生产过程中，往往需要对硅片进行2～3次的清洗，清洗目 前主要采用湿法化学清洗，会用到大量的无机酸碱，产生的废水有很高的酸碱 度，现有技术中往往只对废水经过简单的中和处理即排放，往往环保不能够达 标，而且也会造成巨大的水浪费。

实用新型内容

根据以上现有技术的不足，本实用新型提供一种应用于半导体扩散片生产 的酸碱废水处理系统，能够对半导体扩散片生产过程中的废水进行分类处理， 并且能够达到循环使用的要求。

本实用新型所述的一种应用于半导体扩散片生产的酸碱废水处理系统，其 特征在于：包括依次连接的集水池、PH调节池、一次中和反应池和沉淀池，其 中，沉淀池中的上层清液依次抽至盘式过滤器、软化床、袋式过滤器、超滤水 箱和回用收集池，沉淀池底部污泥依次抽至污泥浓缩池和污泥压滤机。

其中，优选方案如下：

一次中和反应池和沉淀池之间还设置有二次中和反应池。废水经过两次中 和反应，处理更加彻底，避免出现不达标的情况。

PH调节池、一次中和反应池和二次中和反应池设有搅拌装置。搅拌装置可 以加快反应的进行。

沉淀池及回用收集池设有用于监测废水水质的监控系统。

在本实用新型中，废水经过处理后集中到沉淀池中，其中上清液进过进一 步过滤处理收集至回用收集池，可以重新作为循环水使用，沉淀池底部污泥经 过处理后得到泥饼，可以回收处理，以此达到废水分类处理，循环水指标更高。

本实用新型所具有的有益效果是：(1)回收水质完全达到和优于国家关于 《城市污水再生利用工业用水水质》(GB/T19923-2005)、《城市污水再生利用城 市杂用水水质》(GB/T18920-2002)标准，达到0.1MΩ·cm以上，可直接回用作生 产洗涤用水、厂区绿化、消防补充用水等；(2)整个处理过程流程短、占地小、 能耗低，易于实现自动化控制，系统运行可靠，运行费用较低，真正实现污水、 废水资源化，增加可利用的水资源，有利于实现废水无害化，防治水污染。

附图说明

图1为本实用新型的系统原理图。

具体实施方式

以下结合附图和实施例对本实用新型做进一步描述。

实施例1：

如图1所示，一种应用于半导体扩散片生产的酸碱废水处理系统，包括依 次连接的集水池、PH调节池、一次中和反应池和沉淀池，其中，沉淀池中的上 层清液依次抽至盘式过滤器、软化床、袋式过滤器、超滤水箱和回用收集池， 沉淀池底部污泥依次抽至污泥浓缩池和污泥压滤机。

一次中和反应池和沉淀池之间还设置有二次中和反应池。废水经过两次中 和反应，处理更加彻底，避免出现不达标的情况。

PH调节池、一次中和反应池和二次中和反应池设有搅拌装置。搅拌装置可 以加快反应的进行。

沉淀池及回用收集池设有用于监测废水水质的监控系统。

在本实用新型中，废水经过处理后集中到沉淀池中，其中上清液进过进一 步过滤处理收集至回用收集池，可以重新作为循环水使用，沉淀池底部污泥经 过处理后得到泥饼，可以回收处理，以此达到废水分类处理，循环水指标更高。