[实用新型]对称式背景装饰砖有效
申请号: | 201520820484.4 | 申请日: | 2015-10-21 |
公开(公告)号: | CN205046789U | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 苏乃昌 | 申请(专利权)人: | 苏乃昌 |
主分类号: | E04F13/14 | 分类号: | E04F13/14 |
代理公司: | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人: | 高之波;杨晓欣 |
地址: | 528000 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对称 背景 装饰 | ||
技术领域
本实用新型属于一种装饰用品,尤其是涉及一种对称式背景装饰砖。
背景技术
现今陶瓷已广泛运用于建筑装饰,为了增加建筑的美观,在瓷砖上雕刻各种图案,满足使用要求;或者采用冲压成型,在粉料上成型出不同图案;或者采用注浆成型,在泥浆坯料上成型出不同图案。但现有的陶瓷上成型或雕刻的图案大多是直接在瓷砖表面进行,从而使得成型或雕刻后瓷砖表面凹凸不平,减低了瓷砖的平整度;现有部分瓷砖在成型或雕刻完成,瓷砖表面依旧平整,容易存积尘土等,不易于清洗,且反光面较多,使用不便。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种对称式背景装饰砖,能够解决上述问题中的至少一个。
根据本实用新型的一个方面,提供了一种对称式背景装饰砖,包括主体和釉层,釉层设于主体的表面,主体表面分为多个雕刻部,多个雕刻部对称分布,雕刻部包括多个凹槽,相邻凹槽的深度不相同,釉层与主体的上端面相平齐。
本实用新型的有益效果是:由于釉层与主体的上端面相平齐,因此,使得雕刻部的凸起部分被釉层覆盖;同时,多个雕刻部对称设置,雕刻部的相邻凹槽的深度不相同,因此,使得雕刻部上覆盖釉层后,釉层的厚度不均一,具有层次感,提高美观度,减少反光面,满足使用要求。
在一些实施方式中,多个雕刻部关于主体上端面的中心对称分布。由此,可以增加雕刻后整个对称式背景装饰砖的美观度。
在一些实施方式中,相邻凹槽的深度相差大于0.1mm,由此,可以体现雕刻部的层次感。
在一些实施方式中,主体与釉层通过烧制固定,由此,可以增强主体与釉层结合的牢固程度。
在一些实施方式中,相邻凹槽之间设有隔层,隔层的厚度大于0.1mm。由此,设有隔层,可以保证各部分在填充釉层时相互连通,保证了雕刻部的层次感,以及便于雕刻不同图案,满足不同使用要求。
附图说明
图1是本实用新型的对称式背景装饰砖的结构示意图;
图2是本实用新型的对称式背景装饰砖的剖视结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
参照图1和图2:对称式背景装饰砖,包括主体1和釉层2,釉层2设于主体1的表面,主体1表面分为多个雕刻部3,多个雕刻部3对称分布,雕刻部3的数量根据需要进行选择,多个雕刻部3可以关于主体1上表面的中心轴对称。雕刻部3包括多个凹槽31,相邻凹槽31的深度不相同。本实用新型中的釉层2与主体1的上端面相平齐,釉层2对主体1的上端面进行填平,使得整个对称式背景装饰砖表面平整,不易于灰尘等的沉积,且易于清洗,增加实用性。
其中,凹槽31的数量可以根据雕刻部3所需雕刻的图案决定,釉层2在雕刻部3雕刻完成后涂敷在主体1的表面,使得釉层2覆盖整个主体1的上端面,并与雕刻部3的顶端相平,使得釉层2填满雕刻部3的凹槽31。由此,该对称式背景装饰砖通过釉层2将主体1填充平整,可以有效保护雕刻部3,增加对称式背景装饰砖的耐磨损性,保证了对称式背景装饰砖的平整度;通过凹槽31内釉层2厚度的不同,体现整个雕刻部3的立体感。
多个雕刻部3关于主体1上端面的中心对称分布。由此,可以使得多块对称式背景装饰砖在拼装完成后可以使各图案依旧对称分布,增加装饰的美观性。
相邻凹槽31的深度相差大于0.1mm,其中,釉层2采用透明釉或者是彩色釉加透明釉材料。相邻凹槽31的深度不一致,使得釉层2填充后可以通过釉层2的不同厚度体现出来的颜色深浅,体现雕刻部3的立体感,从而使得整个对称式背景装饰砖具有层次感,提高装饰的美观性和实用性。
主体1与釉层2通过烧制固定,当雕刻部3雕刻完成后,在主体1的表面填充釉层,填充后再放入窑炉烧制完成。
相邻凹槽31之间设有隔层4,隔层4的厚度大于0.1mm,隔层4与主体1为一体成型结构。相邻雕刻部3之间也通过隔层4相隔开,保证了各雕刻部3的图案的独立性。
本实用新型的对称式背景装饰砖通过设有多个雕刻部3,使得对称式背景装饰砖的图案呈对称分布,增加美感;通过釉层2填满整个主体1上表面,减少主体1的反光面,且对称式背景装饰砖表面光洁,易于清洗,增强实用性;通过不同深度的凹槽31,使得整个对称式背景装饰砖具有层次感和立体感,更符合美学要求。
以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。
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