[实用新型]一种园林设计生态护坡有效

专利信息
申请号: 201520831943.9 申请日: 2015-10-19
公开(公告)号: CN205024706U 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 杜建川;高武 申请(专利权)人: 安徽广艺园林股份有限公司
主分类号: E02D17/20 分类号: E02D17/20;E02B3/12;E02B3/14;E03B3/02;A01G25/02
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摘要:
搜索关键词: 一种 园林设计 生态 护坡
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及生态护坡领域,尤其涉及一种园林设计生态护坡。

背景技术

生态护坡,是综合工程力学、土壤学、生态学和植物学等学科的基本知识对斜坡或边坡进行支护,形成由植物或工程和植物组成的综合护坡系统的护坡技术。开挖边坡形成以后,通过种植植物,利用植物与岩、土体的相互作用(根系锚固作用)对边坡表层进行防护、加固,使之既能满足对边坡表层稳定的要求,又能恢复被破坏的自然生态环境的护坡方式,是一种有效的护坡、固坡手段。

然而,传统的生态护坡多为河道或高速公路设计,由于工程浩大,所以结构通常比较简单,功能相对单一,护坡效果有限,不适用园林的景观设计,为此我们提出了一种园林设计生态护坡。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种园林设计生态护坡。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种园林设计生态护坡,包括碎石层,其特征在于:所述碎石层铺设在坡面表面,所述碎石层的上表面铺设有砂石层,所述砂石层的上侧设有填土层,所述填土层的上侧覆盖有均匀排布的方形中空护坡砖,且护坡砖部分埋入在填土层中,且护坡砖两侧埋入填土层的部分设有圆形开孔,所述圆形开孔中贯穿设有滴灌管,所述坡面的坡底处设有储水槽,且储水槽位于碎石层下侧,且储水槽与碎石层之间设有过滤层,所述储水槽内设有抽水机,所述抽水机出水口连接有第一水管,所述滴灌管进水端与第一水管连通,所述滴灌管出水口连接有第二水管,所述第二水管连接储水槽。

优选的,所述滴灌管为一种埋设于植物根部滴灌管。

优选的,所述第二水管与储水槽的连接处设有过滤网。

优选的,所述填土层的倾斜角度为15度-45度。

本实用新型中,利用多层结构收集降水,减少了强降水对护坡表层土壤的影响,提高了护坡防护性能,并结合循环滴灌技术,提高了护坡对水资源的利用率,减少了维护成本,通过将生态护坡引入到园林设计领域,提高了护坡的观赏性。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种园林设计生态护坡的侧面结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种园林设计生态护坡的俯视图。

图中:1坡面、2碎石层、3砂石层、4填土层、5护坡砖、6滴灌管、7储水槽、8过滤层、9抽水机、10第一水管、11第二水管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

参照图1-2,一种园林设计生态护坡,包括碎石层2,所述碎石层2铺设在坡面1表面,碎石层2的上表面铺设有砂石层3,碎石层2和砂石层3透气气效果好,利于植被生长,且在强降水天气,渗水速度块,防止植物根部长时间浸泡在水中而腐败,砂石层3的上侧设有填土层4,填土层4的倾斜角度为15度-45度,在保证生态护坡观赏性的同时,有利于固定土壤和收集雨水,填土层4的上侧覆盖有均匀排布的方形中空护坡砖5,且护坡砖5部分埋入在填土层4中,有利于填土层4的固定,且护坡砖5两侧埋入填土层4的部分设有圆形开孔,圆形开孔中贯穿设有滴灌管6,滴灌管6为一种埋设于植物根部滴灌管,滴灌管6进行灌溉,水的蒸发损失小,对水的利用率高,同时不破坏土壤结构,填土层4上侧的护坡砖5中种植有花草等植物,增加生态护坡的观赏性,坡面1的坡底处设有储水槽7,且储水槽7位于碎石层2下侧,且储水槽7与碎石层2之间设有过滤层8,过滤层8可以防止砂石进入储水槽7,储水槽7内设有抽水机9,抽水机9出水口连接有第一水管10,滴灌管6进水端与第一水管10连通,滴灌管6出水口连接有第二水管11,第二水管11连接储水槽7,且第二水管11与储水槽7的连接出设有过滤网,储水槽7内的水依次通过抽水机9、第一水管10、滴灌管6和第二水管11回流到储水槽7,干旱少雨天气,可以利用储水槽里的水灌溉植被,适用于小面积园林的景观设计中。

本实用新型中,在坡面1的下坡处设置储水槽,来收集雨水,坡面1上设置碎石层2和砂石层3有利雨水的收集,结合预埋在填土层4内的滴灌管6,进行循环灌溉。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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