[实用新型]修补阻焊膜的装置有效

专利信息
申请号: 201520845475.0 申请日: 2015-10-27
公开(公告)号: CN205148954U 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 谢文蛟;王剑;宫立军 申请(专利权)人: 广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;宜兴硅谷电子科技有限公司
主分类号: B29C73/02 分类号: B29C73/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 曾旻辉
地址: 510663 广东省广州市广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 修补 阻焊膜 装置
【权利要求书】:

1.一种修补阻焊膜的装置,其特征在于,包括:

杆件;所述杆件设有空腔及连接部;

过渡件;所述过渡件与所述连接部连接,所述过渡件设有通道,所述通道 的一端与所述空腔相连通,所述通道的另一端设有容纳腔;及

滚动件,所述滚动件与所述容纳腔间隙配合,所述滚动件的边缘向所述容 纳腔外凸出。

2.根据权利要求1所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述通道还设 有过道容纳腔,所述过道的一端与所述空腔相连通,所述过道的另一端与所述 容纳腔相连通。

3.根据权利要求2所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述过道的横 截面的面积小于所述容纳腔的横截面的面积。

4.根据权利要求2所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述滚动件包 括圆柱体、两个凸台,两个所述凸台分别设置于所述圆柱体的两端;所述容纳 腔设有两个与所述凸台相配合的凹槽。

5.根据权利要求4所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述圆柱体与 所述过道之间的间隙为0.05mm~0.15mm。

6.根据权利要求4所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述圆柱体的 半径比所述容纳腔的半径小1mm~3mm;所述圆柱体与所述容纳腔的轴向间隙 为0.5mm~1mm。

7.根据权利要求4所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述圆柱体的 边缘向所述容纳腔外凸出的高度为0.5mm~1.5mm。

8.根据权利要求1所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述滚动件为 球体,所述容纳腔为球缺形容纳腔。

9.根据权利要求8所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述球缺形容 纳腔的半径比所述滚动件的半径大0.5mm以上;所述滚动件的边缘向所述容纳 腔外凸出的高度为0.5mm~1.5mm。

10.根据权利要求1-9任一项所述的修补阻焊膜的装置,其特征在于,所述 空腔及所述通道均为圆柱形,所述空腔的内径为8mm~12mm,所述通道的内径 为4mm~8mm;其中,所述空腔的内径大于所述通道的内径。

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