[实用新型]抛光设备

说明书

技术领域

本实用新型关于一种加工设备，尤指一种能提高运作可靠性的抛光设备。

背景技术

现有半导体制程中，晶圆于制造完成后，会进行薄化加工，其包含研磨作业与抛光作业，之后才会进行切单、封装等制程。

如图1所示，现有抛光机1包括：一机台本体(图略)、一设于该机台本体上侧的固定装置11、一设于该机台本体下侧的抛光装置12、以及一设于该固定装置11的承载装置13。该固定装置11包含一真空吸盘111、及一环绕固定该真空吸盘111的固定架112，且该真空吸盘111凸出该固定架112，以利于吸附该承载装置13。该承载装置13包含一结合于该真空吸盘111上的贴膜130、及供设置该贴膜130的一铁环131。

于进行抛光作业时，先将一如晶圆的欲抛光件9粘贴于该贴膜130上，再以该真空吸盘111吸附(如图所示的箭头的向上方向)该贴膜130，使该承载装置13固定于该固定装置11上。之后，该抛光装置12配合浆液(如图1所示的流入方向F)磨平该欲抛光件9的表面。

然而，现有抛光机1中，该固定架112与该铁环131之间为悬空，两者间并无支撑力，故于进行抛光作业时，该铁环131容易震动，致使该欲抛光件9容易受震而损坏(如晶圆碎裂)。

因此，如何克服现有技术的问题，实为一重要课题。

实用新型内容

为解决上述现有技术的问题，本实用新型遂揭露一种抛光设备，能避免该欲抛光件的边缘因震动而损坏的发生。

本实用新型的抛光设备包括：机台本体，其具有相对的第一侧与第二侧，以及位于该第一侧与第二侧之间的一容置空间；固定装置，其设于该机台本体的第一侧上并位于该容置空间中，且该固定装置包含相邻接的作用部及延伸部，该作用部相对该延伸部朝该第二侧的方向凸出以固定至少一欲抛光件，而该延伸部相隔一间隙固定该欲抛光件；以及抛光装置，其设于该机台本体的第二侧上并位于该容置空间中。

前述的抛光设备中，该作用部为吸附结构、供粘附结构或卡固结构，例如，该吸附结构为真空式吸附结构或磁力式吸附结构。

前述的抛光设备中，该延伸部形成于该作用部的侧缘。

前述的抛光设备中，该延伸部具有吸附结构。例如，该吸附结构为磁力式吸附结构。

前述的抛光设备中，该延伸部中设有磁性件，以吸引该欲抛光件。又，该延伸部中还设有止挡件，以令该止挡件外露于该延伸部表面。

前述的抛光设备中，还包括用以承载该欲抛光件的承载装置，其结合于该固定装置上，且位于该固定装置与该抛光装置之间的容置空间中。例如，该承载装置与该延伸部之间具有间隙。或者，该承载装置包含用以承载该欲抛光件的承载部、及设于该承载部上的支撑部。

由上可知，本实用新型的抛光设备中，主要藉由该延伸部相隔一间隙固定该欲抛光件的设计，以固定该欲抛光件的边缘，故相较于现有技术，于进行抛光作业时，本实用新型的抛光设备能避免该欲抛光件的边缘因震动而损坏的发生。

附图说明

图1为现有抛光设备的剖面示意图；

图2为本实用新型的抛光设备的第一实施例的剖面示意图；其中，图2’为图2的局部上视图；

图3为本实用新型的抛光设备的第二实施例的剖面示意图；以及

图4A至图4D为本实用新型的抛光设备的延伸部的各种实施例的局部剖面放大示意图。

其中，附图标记说明如下：

1抛光机

11、21固定装置

111真空吸盘

112固定架

12、22抛光装置

13、33承载装置

130贴膜

131铁环

2、3抛光设备

20机台本体

20a第一侧

20b第二侧

210吸附结构

211作用部

212延伸部

330承载部

331支撑部

40、40’开孔

41磁性件

42、42’止挡件

43支撑件

9欲抛光件

9a外露表面

S容置空间

t间隙。

具体实施方式

以下藉由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。