[实用新型]适用于高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种金属屏蔽罩，具体涉及一种锥台形金属短管荧光屏屏蔽罩。

背景技术

Rheed(分子束外延生长的实时监测技术)已得到了广泛的应用。从电子枪发射出来的具 有一定能量(通常为10-30kev)的电子束以1-2°的掠射角射到样品表面，然后衍射到荧 光屏上成像，因此RHEED所反映的完全是样品表面的结构信息。然而在高气压(数百mTorr) 的生长环境下，荧光屏必须靠近样品台以减少电子束的散射。这样就带来两个技术难题：一， 蒸发材料会蒸镀到荧光屏上，大大缩短其使用寿命；二，如果样品台温度较高，如激光分子 束外延样品温度接近1000C，荧光粉很容易挥发掉。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型目的是，提供一种适用于高气压下的Rheed荧光 屏金属屏蔽罩，通过在荧光屏的前面放置一个锥台形的金属短管，电子束可以通过锥台形金 属短管的前端小孔入射到荧光屏上显示成像，锥台形短管往前伸出一段距离，可以有效地屏 蔽蒸发源蒸发出的材料附着到荧光屏上；同时，锥台形短管也可以屏蔽样品处的加热源的热 量辐射到荧光屏上将荧光粉蒸发掉。

本实用新型的技术方案是：一种适用高气压下的Rheed荧光屏金属屏蔽罩，在分子束外 延生长的实时监测荧光屏的前面放置一个屏蔽罩，所述屏蔽罩纵截面为锥台形的金属短管， 锥台形金属短管的大口径端与荧光屏座接触并压紧荧光屏座2，锥台形的斜线与分子束外延 的水平线呈20-35度角。

电子束5从锥台形金属短管的小口径端进入，然后在后面的荧光屏上成像。锥台形管一 方面完全挡住了下方的蒸镀材料，另一方面也有效屏蔽样品台的热辐射。

本实用新型有益效果：通过在荧光屏的前端安置一个锥台形短管，工作时，可以让电子 束通过锥台形短管的小孔入射到荧光屏上成像，可以有效地保护荧光屏，在工作中，防止蒸 发源蒸出的材料附着到荧光屏上面，污染荧光屏；在蒸发过程中，可以有效地屏蔽样品处的 加热源辐射出的高温且能让Rheed的电子束顺利的打到荧光屏上成像。

附图说明

图1为本实用新型的金属屏蔽罩的结构使用说明图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图所示，荧光屏1放置于屏蔽罩座内，在荧光屏的前面放置一个屏蔽罩3即纵截面为 锥台形的金属短管，锥台形金属短管的大口径端与荧光屏座2接触，压紧荧光屏座2，锥台 形(喇叭)金属短管小口径端朝向样品4处，锥台形金属短管大口径端通过屏蔽罩座上面的 螺丝锁紧。电子束5从锥台形金属短管的小口径端进入，然后在后面的荧光屏上成像。锥台 形金属短管一方面完全挡住了下方(或其它位置)蒸发源处蒸发的蒸镀材料6，保护了荧光 屏不被蒸镀材料附着而造成的污染，同时也有效地样品台处加热源的热辐射。

与传统的没有屏蔽罩的结构相比，荧光屏的寿命提高了约十倍。

本实用新型提供一种适用于高气压下的Rheed荧光屏金属短管屏蔽罩，通过在荧光屏的 前端放置一个锥台形金属短管，电子束可以从锥台形短管的小口径端进入，然后成像在后面 的荧光屏上，同时锥台形短管一方面挡住了下方的蒸镀材料，另一方面也有效的屏蔽了样品 台的热辐射，从而大大提高了荧光屏的实用寿命。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型。本实用新型 所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种的更动 与润饰。因此，本实用新型的保护范围当视权利要求书所界定者为准。