[实用新型]一种化学气相沉积工艺设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积工艺设备，包括:

与一反应源连接的总管路；

与所述总管路并行连接的第一传输管路和第二传输管路；

与所述第一传输管路和第二传输管路连接的吹扫气体管路；

设置于所述第一传输管路上的第一气动阀、设置于所述第二传输管路上的第二气动阀以及设置于所述吹扫气体管路的控制阀；

与所述第一气动阀连接并能驱动所述第一气动阀的第一驱动气管，与所述第二气动阀连接并能驱动所述第二气动阀的第二驱动气管；

依次与所述第一传输管路连接的喷嘴、气体混合槽、气体喷头、工艺腔体和真空及废气处理系统，所述真空及废气处理系统与所述第二传输管路连接；

其特征在于，所述化学气相沉积工艺设备还包括：

设置于所述第一驱动气管上第一驱动开关；

第一引出气管以及设置于所述第一引出气管上第一引出开关；

与所述第一驱动气管、第一引出气管和第一气动阀连接的第一三通管。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第一驱动开关和第一引出开关均为手动开关。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第一三通管与所述第一气动阀的距离小于等于10cm。

4.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第一三通管与所述第一驱动开关和第一引出开关的距离均小于等于20cm。

5.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第一三通管为一即插式的三通管。

6.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于，还包括：

设置于所述第二驱动气管上第二驱动开关；

第二引出气管以及设置于所述第二引出气管上第二引出开关；

与所述第二驱动气管、第二引出气管和第二气动阀连接的第二三通管。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第二驱动开关以及第二引出开关均为手动开关。

8.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第二三通管与所述第二气动阀的距离小于等于10cm。

9.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第二三通管与所述第二驱动开关以及第二引出开关的距离均小于等于20cm。

10.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述第二三通管为一即插式的三通管。

11.如权利要求1至10中任意一项所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：所述吹扫气体管路为氦气管路。

12.如权利要求1至10中任意一项所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于：还包括设置于所述总管路上的液体流量控制器。