[实用新型]一种铜箔后处理机防尘装置有效

专利信息
申请号: 201520871106.9 申请日: 2015-11-04
公开(公告)号: CN205130577U 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 樊斌锋;李应恩;王建智;何铁帅;韩树华;李伟;张伟华 申请(专利权)人: 灵宝华鑫铜箔有限责任公司
主分类号: B32B38/00 分类号: B32B38/00
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 472500 河南*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 铜箔 处理机 防尘 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于铜箔生产技术领域,具体涉及一种铜箔后处理机防尘装置。

背景技术

电解铜箔是电子工业的基础材料,广泛应用于家电、通讯等领域,属于技术层次较高的铜加工材料。随着节能型产品的日益增加,其中锂电池是用量最大、用途最广的电子续航产品。由于电子产品日趋小型、轻量、薄型化,要求锂电池同样也小型、轻薄化、大容量化,这就需要电解铜箔具有更优的特性及可靠性。

铜箔在生产运行中表面落上灰尘时,经过导辊和收卷,会造成铜箔压坑、压眼。同时,如果铜箔表面落上灰尘,必然会粘贴在铜箔表面,经过机列上几次不同溶液的腐蚀及各种导辊的挤压,铜箔表面落上灰尘或纤维的地方,反复多次的化学腐蚀和机械腐蚀会使该处与其它地方的色泽不一样,时间长了形成一个黑点。因此,灰尘是铜箔生产的大敌,如何有效的防止灰尘是一个很关键的问题。

实用新型内容

为了克服现有技术的缺陷,本实用新型目的在于提供一种铜箔后处理机防尘装置。

为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案如下:

一种铜箔后处理机防尘装置,设有加工铜箔的后处理机列,所述后处理机列包括位于其前端的放卷辊,后处理机列的左、右两侧均匀设置有若干垂直于地面的支撑架,所述支撑架的高度与后处理机列相适应,相邻两个支撑架之间固定有透明的侧板以使后处理机列的左、右两侧均封闭;支撑架的上端固定有框架,框架上均匀搭设有若干透明的上板,所述上板的左右两端与框架之间、及相邻两块上板之间均为无缝靠接;前端支撑架的上、下两端均设有导轨,导轨上滑动连接有透明的推拉门,所述推拉门闭合时的左、右两端分别与左、右两侧的支撑架相靠接,推拉门上固定有把手;前端的支撑架下部设置有加强筋。

优选地,所述推拉门包括左、右两扇门板。

优选地,所述支撑架、框架及加强筋均为不锈钢制成的。

优选地,所述侧板、上板及推拉门均为有机玻璃制成的。

本实用新型通过设置透明的上板、侧板及推拉门,保持了较好的防尘效果,同时不影响车间美观;方便对放卷辊进行换卷,并且可观察后处理机列工作情况,及时进行整修,不影响正常生产运行。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示,一种铜箔后处理机防尘装置,设有加工铜箔的后处理机列,后处理机列包括众多工序,其中,位于其前端的为放卷辊。后处理机列的左、右两侧均匀设置有若干垂直于地面的支撑架1,所述支撑架1的高度略高于后处理机列,相邻两个支撑架1之间固定有透明的侧板3,以使后处理机列的左、右两侧均为封闭的;支撑架1的上端固定有矩形的框架2,框架2上均匀搭设有若干透明的上板4,所述上板4的左右两端与框架2之间、及相邻两块上板4之间均为无缝靠接;前端支撑架1的上、下两端均设有导轨5,导轨5上滑动连接有透明的推拉门6,所述推拉门6闭合时的左、右两端分别与左、右两侧的支撑架1相靠接,推拉门6上固定有把手7。为了加固推拉门6的稳定性,前端的支撑架1下部设置有加强筋8。为了保证该防尘装置的耐用性,所述支撑架1、框架2及加强筋8均为不锈钢制成的;所述侧板3、上板4及推拉门6均为有机玻璃制成的。

为了方便对放卷辊进行换卷,同时不影响车间美观,推拉门6采用左、右两扇门板;当需要换卷时,将推拉门6拉开,换卷结束后,将推拉门6闭合。进一步为了舒适、美观,放卷辊上方的上板4可采用弧面,后面的上板4采用平面。该防尘装置两侧设置有楼梯及平台,以便于操作者登上平台,观察后处理机列的工作情况,若某导辊出现问题,可拿开该导辊上方的上板4,进行整修。本实用新型在铜箔后处理过程中遮挡防尘,又不影响生产操作,极大地避免了铜箔因灰尘而造成缺陷。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于灵宝华鑫铜箔有限责任公司,未经灵宝华鑫铜箔有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520871106.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top