[实用新型]一种蓝宝石清洗装置有效

专利信息
申请号: 201520918316.9 申请日: 2015-11-18
公开(公告)号: CN205289107U 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 黄根友 申请(专利权)人: 无锡科诺达电子有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/02
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 刘述生
地址: 214151 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 蓝宝石 清洗 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及蓝宝石加工技术领域,特别是涉及一种蓝宝石清洗装置。

背景技术

蓝宝石具有硬度高、熔点高、透光性好、电绝缘性优良、化学性能稳定等优点,广泛应用于机械、光学、信息等高技术领域。

蓝宝石加工后表面布满各种杂质污染物,吸附在蓝宝石晶片表面上的杂质可分为分子型、离子型和原子型三种情况,其中分子型杂质与蓝宝石晶片表面之间的吸附力较弱,离子型和原子型吸附的杂质属于化学吸附杂质,其吸附力都较强,在一般情况下,原子型吸附杂质的量较小,因此在清洗时,可在清除分子型杂质后,先清除掉离子型吸附杂质,然后再清除原子型杂质。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种蓝宝石清洗装置,能够对蓝宝石晶片进行全面清洁,有效去除蓝宝石晶片表面附着有机物、金属杂质,污染颗粒以及细小微粒,清洁全面有效。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种蓝宝石清洗装置,其特征在于,包括:清洗槽以及连接在清洗槽上的机体外壳,所述的清洗槽包括第一清洗槽、第二喷淋槽,所述的第一清洗槽底部设置有兆声波换能器,所述的第二喷淋槽上方设置有喷淋装置,第二喷淋槽的右侧设置有储液槽,所述的喷淋装置与储液槽连接,所述的机体外壳上设置有一控制面板。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的机体外壳与清洗槽之间为密闭结构。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的兆声波换能器通过兆声波发生器与所述的控制面板连接。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的储液槽内为去离子水。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的喷淋装置与所述的控制面板连接。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述的控制面板与电源连接。

本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,采用兆声波清洗以及喷淋清洗两种清洗方式,对蓝宝石晶片进行全面清洁,有效去除蓝宝石晶片表面附着有机物、金属杂质,污染颗粒以及细小微粒,清洁全面有效。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:

图1是本实用新型一种蓝宝石清洗装置一较佳实施例的结构示意图;

附图中各部件的标记如下:1-机体外壳、2-第一清洗槽、3-第二喷淋槽、4-兆声波换能器、5-喷淋装置、6-储液槽、7-控制面板。

具体实施方式

下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1,本实用新型实施例包括:

一种蓝宝石清洗装置,其特征在于,包括:清洗槽以及连接在清洗槽上的机体外壳1,所述的清洗槽包括第一清洗槽2、第二喷淋槽3,所述的第一清洗槽2底部设置有兆声波换能器4,所述的第二喷淋槽3上方设置有喷淋装置5,第二喷淋槽3的右侧设置有储液槽6,所述的喷淋装置5与储液槽6连接,所述的机体外壳1上设置有一控制面板7。

区别于现有技术。

在另一个实施例中,所述的机体外壳1与清洗槽之间为密闭结构。

在另一个实施例中,所述的兆声波换能器4通过兆声波发生器与所述的控制面板7连接,兆声波能形成高速的流体波连续冲击晶片表面,使蓝宝石晶片表面附着的沾污和细小微粒被强制除去并进入到清洗液中,兆声波清洗可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。

在另一个实施例中,所述的储液槽6内为去离子水,喷淋装置5启动,将储液槽6内的去离子水通过喷淋方式喷洒到喷淋槽内的蓝宝石晶片上。

在另一个实施例中,所述的喷淋装置5与所述的控制面板7连接。

在另一个实施例中,所述的控制面板7与电源连接。

本实用新型结构简单,采用兆声波清洗以及喷淋清洗两种清洗方式,对蓝宝石晶片进行全面清洁,有效去除蓝宝石晶片表面附着有机物、金属杂质,污染颗粒以及细小微粒,清洁全面有效。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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