[实用新型]具有抗衰层的发光二极管有效
申请号: | 201520930868.1 | 申请日: | 2015-11-20 |
公开(公告)号: | CN205231094U | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 王晓晖;刘佩;张业民;陈宇;张荣勤;宋京 | 申请(专利权)人: | 天津中环新光科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/10;H01L33/30 |
代理公司: | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人: | 高凤荣 |
地址: | 300385 天津市西*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 抗衰层 发光二极管 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种发光二极管,尤其涉及一种具有抗衰层的发光二极 管。
背景技术
发光二极管(英文lightingemittingdiode,简称LED)现阶段已经大 规模应用于人类社会的各种照明、显示、指示等场合,多为无机半导体材料 构成,在应用中以长寿命,高可靠性,高节能性,高转换效率等诸多优点著 称。因此,构成了固态照明中的核心器件,时至今日,已然形成了规模巨大 的产业,成为促进国民经济发展的重要推动力。
发光二极管(LED)的技术发展所追求的目标,一是更高的亮度,二是更 高的转换效率。无论对于砷化镓(GaAs)基的红光,黄光及黄绿光发光二极 管,还是氮化镓(GaN)基的蓝光、蓝光及紫光发光二极管,以及砷化镓铝 (AlGaAs)基的红外发光二极管,基本采取的是提升内量子效率与外量子效 率并举的方法来提高其亮度,其中,内量子效率的提高主要采取的方法是优 化有源区的生长参数,采用纯度更高的源材料,提高量子阱(超晶格)的限 制作用等手段来实行的;外量子效率的提高则通过外延生长相应波长的分布 布拉格反射器,化学抛光使表面粗化,采用折射率更加适合的材料以完成键 合工艺等手段来实现。
经过长时间的发展,在半导体照明产业技术发展的促进作用下,现有的 砷化镓(GaAs)基磷化铝镓铟(InAlGaP)四元系发光二极管发光波长覆盖了 从黄绿光(570nm)到黄光(590nm)到橙光(605nm)到红光(625nm)的波 段,在极致条件下已能外延出用于农业生产方面的660nm波段的长波长红光, 并且亮度及均匀性均得到了大幅度的提高,大大增加了产品的应用范围。但 是,对于磷化铝镓铟(InAlGaP)四元系发光二极管而言,尤其是黄光及黄绿 光发光二极管,由于其在外延生长过程中发光核心区的铝组分的含量较高(黄 光10%以上,黄绿光30%以上),因此,在生长过程中首先磷化铝镓铟(InAlGaP) 四元合金发生合金有序现象的几率会大大增加,使波长发生偏离。克服合金 有序现象的手段可以通过选择合适晶面的衬底、优化生长外延工艺参数、合 理进行掺杂等手段予以避免;其次,因铝元素与生长气氛中所残存的氧杂质 的结合异常稳定,常常会导致在量子阱有源区内形成深能级,这些深能级在 发光过程中起到了非常不利的作用,在复合载流子过程中,并不提供发光机 制,而且,还会形成热能向外释放,使得量子阱有源区的温度进一步提高, 从而导致黄光及黄绿光发光二极管(LED)的寿命问题较之红光更为突出。这 一问题可以通过采用纯度更高的源材料(包括V族源和MO源以及掺杂源)、 优化生长工艺等技术手段加以抑制。
目前,市场上发光二极管的寿命检测比较严格,通常认为:室温时168 小时30毫安(mA)工作电流条件下的衰减不能大于10%,这对于GaAs基发光 二极管(LED)尤其是黄光及黄绿光发光二极管(LED)的大规模市场化运用 提出了很有难度的挑战。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于克服现有技术存在的上述缺点,而提供一种 具有抗衰层的发光二极管,其通过在分布布拉格反射器(DBR)与n型磷化铝 铟(InAlP)限制层之间插入一层经过设计的砷磷化铝铟(InxAl1-xAsyP1-y)抗 衰层,不仅可以将分布布拉格反射器(DBR)中的砷化铝(AlAs)层与n型磷 化铝铟(InAlP)限制层之间由于V族元素切换(As-P)以及III族元素(In, Al)配比发生改变,而导致的表面态的面密度有效降低,从而,降低载流子 受到该界面处界面散射的几率,增加了载流子注入效率,有效地降低了因晶 格散射造成的温度升高对生长于其上的量子阱有源区的负面效应:而且,还 可以在不影响发光二极管的电流-电压特性的前题下,进一步降低黄光发光二 极管的寿命衰减。
本实用新型的目的是由以下技术方案实现的:
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