[实用新型]一种用于纳米压印过程中的改进装置有效

专利信息
申请号: 201520941241.6 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN205384442U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 王清;张金涛;马立俊;刘华伟;张睿;郑旭;张艳菊;张星远;杜文全;郑通;邢晓婷 申请(专利权)人: 山东科技大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266590 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 纳米 压印 过程 中的 改进 装置
【权利要求书】:

1.一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:包括曝光光源、观测光源及观测孔,所述观测光源安装在紫外曝光装置中,所述观测孔被观测光源与曝光光源环绕。

2.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:采用两套电路系统分别进行曝光光源与观测光源的开关控制。

3.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:采用LED白光灯作为观测光源。

4.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:所述曝光光源采用LED紫外灯,其发光光谱为固化波段365nm。

5.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:观测光源与曝光光源的分布可以是内外嵌套式、放射间隔式、点布交叉式或两种及多种方式的结合。

6.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印过程中的改进装置,其特征在于:该装置的中心位置设有能够进行观测的观测孔。

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