[实用新型]一种激光聚焦系统有效
申请号: | 201520955466.7 | 申请日: | 2015-11-26 |
公开(公告)号: | CN205166176U | 公开(公告)日: | 2016-04-20 |
发明(设计)人: | 杜习占;王艳红 | 申请(专利权)人: | 深圳市欧亚自动化机械有限公司 |
主分类号: | B23K26/04 | 分类号: | B23K26/04;B23K26/362 |
代理公司: | 深圳华奇信诺专利代理事务所(普通合伙) 44328 | 代理人: | 曲卫涛 |
地址: | 518105 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 聚焦 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及激光处理技术领域,特别是涉及一种激光聚焦系 统。
背景技术
镭雕,是指就是利用镭射光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出 永久的印记的技术。为了镭雕的效果最佳,通常需要将被镭雕物体设置 在激光的最佳焦点上,即可被镭雕物体与激光之间的距离为最佳焦距。
现有技术中主要通过手动寻找最佳焦点,但是由于同一个被镭雕物 体可能需要在不同的位置镭雕文字,图案,二维码等等,而两个镭雕位 置的高度不同会造成激光的焦距的变化,需要重新手动调节振镜的位置 来调节焦距。而手动调节激光的焦距,需要用户通过肉眼观察镭雕的激 光强弱和雕刻图形的效果来判定焦距是否合适,然而这种肉眼判定焦距 的方法没有固定的参照物,造成可能两次或者多次雕刻在同一个被镭雕 物体上不同位置上的图形的图案效果不一致,并且操作较过于繁琐。
而为了使激光输出点至被镭雕物体的焦距相同,保证两次镭雕效果 相同,出现一种调焦方法,即为:在第一次通过手动调焦找到相对最佳 焦距后,测量被镭雕物体表面到场镜的距离H,在移动被镭雕物体或更 换被镭雕物体进行第二次雕刻时,调节振镜的位置,使场镜到物体表面 的距离为H,即判定为跟上一次雕刻的焦距相同,但是这种调节焦距的 法需要通过测量来定判定焦距,而测量容易出现误差,而对于某些被镭 雕物体而言,由于其镭雕面可能很小,测量焦距难于实施。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种激光聚焦系统,方便定 位激光的最佳焦点。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一 种激光聚焦系统,包括:激光输出装置;振镜,所述振镜设置于所述激 光输出装置的输出口;场镜,所述场镜设置于所述振镜上,其中,所述 激光输出装置所输出的激光从所述振镜和场镜后穿出;可见光输出装置, 所述可见光输出装置输出可见光;方向调节装置,所述方向调节装置与 所述可见光输出装置连接,用于调节所述可见光输出装置所输出的可见 光的传输方向。
其中,所述振镜设置有圆形的凹槽;所述方向调节装置包括圆球体 和固定装置;所述可见光输出装置固定于所述圆球体,所述圆球体设置 于所述凹槽内,所述固定装置固定于凹槽开口处并且抵接于圆球体,其 中,在外力作用于所述圆球体时,所述圆球体可相对于所述凹槽转动。
其中,所述固定装置包括固定片和螺丝所述固定片设置有螺孔和输 出孔,所述振镜设置有螺槽,其中,所述螺槽位于所述凹槽的周边;所 述螺丝穿过所述螺孔并固定于所述螺槽内,以使所述固定片固定于所述 凹槽的开口处,并且所述固定片抵接所述圆球体,所述可见光输出装置 的输出口从所述输出孔穿出。
其中,所述可见光输出装置的数量为两个,分别为第一可见光输出 装置和第二可见光输出装置;所述方向调节装置的数量为两个,分别为 第一方向调节装置和第二方向调节装置;所述第一方向调节装置与第一 可见光输出装置连接,用于调节所述第一可见光输出装置所输出的可见 光的方向;所述第二方向调节装置与第二可见光输出装置连接,用于调 节所述第二可见光输出装置所输出的可见光的方向。
其中,所述圆球体与可见光输出装置之间的固定方式包括胶水固定 和/或者螺栓固定。
其中,所述激光聚焦系统还包括开关装置;
所述开关装置固定于所述振镜上,并且所述开关装置与所述可见光 输出装置连接,用于开启或关闭所述可见光输出装置输出可见光。
其中,所述场镜正对被镭雕物体,所述激光输出装置所输出的激光 经过所述振镜和场镜后输出打到被镭雕物体上时,在所述被镭雕物体上 形成圆点。
其中,所述圆点的直径为0.5毫米
其中,所述可见光输出装置所输的可见光为红光。
其中,所述激光输出装置包括气体激光器、固体激光器、半导体激 光器或染料激光器。
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