[实用新型]一种研磨系统有效
申请号: | 201520956416.0 | 申请日: | 2015-11-23 |
公开(公告)号: | CN205238361U | 公开(公告)日: | 2016-05-18 |
发明(设计)人: | 金国明 | 申请(专利权)人: | 天津市明基金泰橡塑制品加工有限公司 |
主分类号: | B29B17/04 | 分类号: | B29B17/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 301714 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 系统 | ||
技术领域
本实用新型属于橡胶加工处理技术领域,具体涉及一种研磨系统。
背景技术
全世界每年有数百万吨废旧橡胶产生,数量如此巨大,如何对其进行有效处理己成为人类社会普遍关注的问题。为此,世界各国纷纷研究更为有效的处理技术以使废旧橡胶重新得到有效利用。
再生胶是指废旧橡胶经过粉碎、加热、机械处理等物理化学过程,使其从弹性状态变成塑性和粘性状态且能够再硫化的橡胶。
再生过程是在热、氧、机械作用和再生剂的化学与物理等综合作用下,使废旧橡胶硫化胶网络破坏降解,恢复粘性、塑性的过程。
目前,很多企业在橡胶再生加工处理时,通常是采用独立设备先粉碎,然后再研磨,但目前的研磨设备仅是单一设备,一个研磨设备配备一个给料系统,成本高,占用空间大,且不能有效适应规模化生产的需要,因此,开发一种新型的研磨系统,很有必要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于解决上述的技术问题而提供一种新型的研磨系统,其可以实现多台研磨机通过一个总给料分配器配料而同时进研磨行加工处理,大大提高了研磨加工的效率以及节约给料设备的成本。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种研磨系统,包括平台,所述平台上设有两排平行设置的研磨单元,每排研磨单元包括多个研磨机;所述多个研磨机分别通过一个分给料器连接到一个总给料分配器;所述总给料分配器连接输料机;所述总给料分配器包括一个料槽,所述料槽内设有一个导料锥,所述导料锥沿所述料槽的轴向方向设置并位于所述料槽的轴线上,所述导料锥的两侧设有多个料分配口,所述多个料分配口与所述分给料器连接。
所述料分配口具有内螺纹,所述分给料器的进料管通过一个外螺纹管头与所述料分配口螺纹连接。
所述分给料器具有给料口,所述给料口通过给料管道连接至所述研磨机。
所述输料机的出料口设在所述导料锥的上方。
本实用新型通过平台上设有两排平行设置的研磨单元,每排研磨单元包括多个研磨机;所述多个研磨机分别通过一个分给料器连接到一个总给料分配器;所述总给料分配器连接输料机;所述总给料分配器包括一个料槽,所述料槽内设有一个导料锥,所述导料锥沿所述料槽的轴向方向设置并位于所述料槽的轴线上,所述导料锥的两侧设有多个料分配口,所述多个料分配口与所述分给料器连接,可以实现多台研磨机配备一个总给料分配器而同时进行加工处理,大大提高了研磨加工的效率以及节约给料设备的成本。
附图说明
图1所示为本实用新型实施例提供的一种研磨系统的结构示意图。
具体实施方式
下面,结合实例对本实用新型的实质性特点和优势作进一步的说明,但本实用新型并不局限于所列的实施例。
参见图1所示,一种研磨系统,包括平台1,所述平台上设有两排平行设置的研磨单元,即第一研磨单元2与第二研磨单元3,每排研磨单元包括多个研磨机35;所述多个研磨机35分别通过一个分给料器33连接到一个总给料分配器4;所述总给料分配器连接输料机5;所述总给料分配器包括一个料槽,所述料槽内设有一个导料锥41,所述导料锥沿所述料槽的轴向方向设置并位于所述料槽的轴线上,所述导料锥的两侧设有多个料分配口42,所述多个料分配口与所述分给料器连接。
所述料分配口42具有内螺纹,所述分给料器33的进料管32通过一个外螺纹管头31与所述料分配口42螺纹连接。
所述分给料器33具有给料口,所述给料口通过给料管道34连接至所述研磨机35。
所述输料机5的出料口设有所述导料锥41的上方,较优的,所述输料机5的出料口的轴向方向上的中心线在与所述的导料锥41的轴向中心轴线上。
从以上的技术方案,可以看出,本实用新型通过平台上设有两排平行设置的研磨单元,每排研磨单元包括多个研磨机;所述多个研磨机分别通过一个分给料器连接到一个总给料分配器;所述总给料分配器连接输料机;所述总给料分配器包括一个料槽,所述料槽内设有一个导料锥,所述导料锥沿所述料槽的轴向方向设置并位于所述料槽的轴线上,所述导料锥的两侧设有多个料分配口,所述多个料分配口与所述分给料器连接,可以实现多台研磨机配备一个总给料分配器而同时进行加工处理,大大提高了研磨加工的效率以及节约给料设备的成本。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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