[实用新型]放射性同位素高分子多层膜有效
| 申请号： | 201520963579.1 | 申请日： | 2015-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN205411713U | 公开（公告）日： | 2016-08-03 |
| 发明（设计）人： | 沈阳 | 申请（专利权）人： | 沈阳 |
| 主分类号： | A61K51/06 | 分类号： | A61K51/06;A61K101/02;A61K103/00;A61K101/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100023 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 放射性同位素 高分子 多层 | ||
【权利要求书】：
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