[实用新型]一种具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及导电薄膜技术领域，具体涉及一种具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜。

背景技术

在触摸屏显示屏幕中，透明导电薄膜（TransparentConductiveFilms，TCF）作为电极元件，是重要的组成配件之一。TCF的类型有很多，主要分为碳纳米管透明导电薄膜、石墨烯透明导电薄膜、金属氧化物透明导电薄膜、高分子透明导电薄膜以及金属纳米线透明导电薄膜。但现有的透明导电薄膜存在导电性能较差，透过度低和制备工艺复杂等缺点。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本实用新型的目的在于提供一种具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现：一种具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜，包括透明基材层和涂布于透明基材层上表面的导电薄膜层，导电薄膜层包括导电区域和绝缘区域，导电区域具有由纳米金属线构成的金属网格，绝缘区域由纳米金属线围合形成，金属网格突出于绝缘区域。

进一步的，所述透明基材层为经过电晕处理的透明聚酯薄膜。

进一步的，所述纳米金属线为纳米银线。

进一步的，所述纳米金属线为纳米铜线。

进一步的，所述金属网格为方形网格。

进一步的，所述透明基材层的厚度为10-500μm。

进一步的，所述导电薄膜层的厚度为10-500nm。

进一步的，所述纳米金属线的宽度为1-20μm。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型的具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜导电性能好，透过度高，柔软性好。

附图说明

图1是本实用新型的局部剖视图。

图2是本实用新型所述导电薄膜层的结构示意图。

附图标记为：1—透明基材层、2—导电薄膜层、21—金属网格、22—绝缘区域。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1-2对本实用新型作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

见图1-2，一种具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜，包括透明基材层1和涂布于透明基材层1上表面的导电薄膜层2，导电薄膜层2包括导电区域和绝缘区域22，导电区域具有由纳米金属线构成的金属网格21，绝缘区域22由纳米金属线围合形成，金属网格21突出于绝缘区域22。

本实用新型的具有金属网格的UV固化型透明导电薄膜导电性能好，透过度高，柔软性好。

本实施例中，所述透明基材层1为经过电晕处理的透明聚酯薄膜。电晕处理其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电（高频交流电压高达5000-15000V/m²），而产生低温等离子体，使塑料表面产生游离基反应而使聚合物发生交联．表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性-这些离子体由电击和渗透进入被印体的表面破坏其分子结构，进而将被处理的表面分子氧化和极化，离子电击侵蚀表面，以致增加承印物表面的附着能力。电晕处理使承印物表面分子结构重新排列，产生更多的极性部位，有利于附着外物。

本实施例中，所述纳米金属线为纳米银线。本实用新型的另一种较佳的实施方式为：所述纳米金属线为纳米铜线。纳米金属线具有导电性能好、透过度高、容易制备和性质柔软等优点。

本实施例中，所述金属网格21为方形网格。本实用新型通过采用上述结构，导电性能好，透过度高，柔软性好。

本实施例中，所述透明基材层1的厚度为10-500μm。具体地，所述透明基材层1的厚度可以为10μm、100μm、200μm、300μm、400μm或500μm。

本实施例中，所述导电薄膜层2的厚度为10-500nm。具体地，所述导电薄膜层2的厚度可以为10nm、100nm、200nm、300nm、400nm或500nm。

本实施例中，所述纳米金属线的宽度为1-20μm。具体地，所述纳米金属线的宽度可以为1μm、5μm、10μm、15μm或20μm。

上述实施例为本实用新型较佳的实现方案，除此之外，本实用新型还可以其它方式实现，在不脱离本实用新型构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。