[实用新型]密封垫圈有效

专利信息
申请号: 201520981045.1 申请日: 2015-12-01
公开(公告)号: CN205173469U 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 何方 申请(专利权)人: 温州市派克液压机电有限公司
主分类号: F16J15/10 分类号: F16J15/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325002 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 密封 垫圈
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种密封零件,更具体地说它涉及一种密封垫圈。

背景技术

现在机械设备中连接件之间的铜密封垫圈主要有普通密封垫圈和复合垫圈两种,这两种密封垫圈的上下表面均为平面,密封垫圈与被密封件和施力部件间均为面密封,对被密封件表面的加工精度要求较高,通常需要较大的力矩才能使密封垫圈的表面与被密封件表面紧密接触,从而达到密封效果,但现有的金属密封垫圈,在力矩过大时容易造成被密封件或密封垫圈上下表面磨损失效,从而散失密封性能,其使用的稳定性以及密封性都有待提高。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种结构稳定、密封性可靠的密封垫圈。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种密封垫圈,包括圆环形的本体,所述本体的上下表面均设有直径小于本体外径的沉降槽,还包括内衬于本体内圈的橡胶卡环,所述橡胶卡环包括有贴合于沉降槽的密封部,所述密封部高出本体表面。

所述橡胶卡环与本体之间连接有粘接层。

所述密封部高出本体的高度为0.2-1mm。

所述沉降槽的深度为0.2-1mm。

本实用新型的效果在于,相比现有技术中的金属密封垫圈,本方案中的垫圈本体还内衬有橡胶卡环,本体的上下表面开设有沉降槽,该沉降槽的直径小于本体的外径,因此设置了该沉降槽后,在本体的上下表面会形成轴向的梯面,该梯面与本体的上下表面之间形成限位结构,该限位结构用于对橡胶卡环的密封部进行限位,密封部与橡胶卡环一体设置,其表面贴合在上述梯面上并高出本体的表面设置。通过采用上述技术方案,橡胶卡环形成横截面为“C”型的夹持结构,通过密封部夹持于上下表面的沉降槽,有效提高橡胶卡环的固定效果,结构更稳定。并且密封部高出本体表面设置,在用于机械密封时,密封部件会先与密封部接触,对密封部施压,从而将高出本体表面的密封部向沉降槽内压缩,由于沉降槽的限位结构,密封部不会向外形变,而是在沉降槽中压缩,从而提高沉降槽处密封部与密封部件之间接触的紧密性,提高了密封性能。

附图说明

图1为本实施例所述密封垫圈剖视图;

图2为本实施例所述本体的剖视图;

图3为本实施例所述密封垫圈改进型的剖视图。

附图标记说明:1、本体;2、橡胶卡环;3、粘接层;11、沉降槽;12、卡槽;21、密封部;22、固定部。

具体实施方式

参照图1至图3对本实用新型实施例做进一步说明。

本实施例所述的密封垫圈,如图1所示,包括圆环形的本体1,所述本体1的上下表面均设有直径小于本体1外径的沉降槽11,还包括内衬于本体1内圈的橡胶卡环2,所述橡胶卡环2包括有贴合于沉降槽11的密封部21,所述密封部21高出本体1表面。

根据现有密封垫圈常运用的场合,优选的,所述密封部21高出本体1的高度为0.2-1mm;所述沉降槽11的深度为0.2-1mm。

本实用新型的效果在于,相比现有技术中的金属密封垫圈,本方案中的垫圈本体1还内衬有橡胶卡环2,本体1的上下表面开设有沉降槽11,该沉降槽11的直径小于本体1的外径,因此设置了该沉降槽11后,在本体1的上下表面会形成轴向的梯面,该梯面与本体1的上下表面之间形成限位结构,该限位结构用于对橡胶卡环2的密封部21进行限位,密封部21与橡胶卡环2一体设置,其表面贴合在上述梯面上并高出本体1的表面设置。通过采用上述技术方案,橡胶卡环2形成横截面为“C”型的夹持结构,通过密封部21夹持于上下表面的沉降槽11,有效提高橡胶卡环2的固定效果,结构更稳定。并且密封部21高出本体1表面设置,在用于机械密封时,密封部21件会先与密封部21接触,对密封部21施压,从而将高出本体1表面的密封部21向沉降槽11内压缩,由于沉降槽11的限位结构,密封部21不会向外形变,而是在沉降槽11中压缩,从而提高沉降槽11处密封部21与密封部21件之间接触的紧密性,提高了密封性能。

优化的,如图3所示,沉降槽11径向的边沿与沉降槽11侧壁的交接处还可设置卡槽12,在橡胶卡环2相对卡槽12的一侧设置用于嵌入卡槽12内的固定部22,可进一步提高橡胶卡环2的固定作用。

进一步优化的,如图1所示,所述橡胶卡环2与本体1之间连接有粘接层3。所述粘接层3由橡胶卡环2通过粘接剂粘接于本体1上形成,通过该粘接层3进一步提高橡胶卡环2的固定作用。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的设计构思之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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