[实用新型]一种深海照相装置有效

专利信息
申请号: 201520982580.9 申请日: 2015-12-01
公开(公告)号: CN205176457U 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 孙元宏;杨德明;任峰 申请(专利权)人: 北京厘海科技有限公司
主分类号: G03B17/12 分类号: G03B17/12
代理公司: 长沙市标致专利代理事务所(普通合伙) 43218 代理人: 周正雄
地址: 100195 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 深海 照相 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及特种摄像领域,具体涉及一种深海照相装置。

背景技术

随着经济的发展,人们的生活越来越丰富,对于水下景象(如水生动植物的生活、海底和河床的地质资料、考古发现等)的探索欲望越来越强。由于水下摄影是由摄影者携带有防护罩的摄影机和潜水装备潜入水中直接拍摄,因此普通的摄像器材难以实现完成高质量的水下景象拍摄。

中国实用新型专利CN204615921U,公开了一种水下影视高速摄像机装置,该装置通过补偿性照明或补偿闪光,可实现高清视频需求。而人们随着对深海景象的好奇心越来越强,由于现有装置并不具备耐压设备,因此,难以实现深海摄像。

实用新型内容

针对以上技术缺陷,本实用新型目的在于提供一种用于深海水下照相的装置,该装置适用于深海水下摄像。

本实用新型通过以下技术方案实现:

一种深海照相装置,包括承压及增透装置,镜头及主板模块,数据控制模块,闪光灯模块,电源模块,所述承压及增透装置包括承压外壳和增透装置,所述增透装置安装在所述承压外壳前端,所述镜头及主板模块、数据控制模块、闪光灯模块和电源模块依次安装在所述承压外壳内部。

所述承压外壳为一个空腔圆形壳体,可以耐45MPa以上的水压;所述承压及增透装置保证在承受45MPa以上压力的同时光线可以正常透过,到达照相机镜头;所述镜头及主板模块,用于接收数据控制模块的指令,所述数据控制模块控制镜头和主板工作,并负责存储数据和接收外部指令;所述闪光灯模块包括闪光灯和闪光灯控制模块,所述闪光灯控制模块用于控制闪光灯闪光量;所述电源模块与所述镜头及主板模块、数据控制模块、闪光灯模块相连,并用于向所述镜头及主板模块、数据控制模块、闪光灯模块供电。

所述增透装置包括前置平凸透镜,耐高压透明视窗,后置平凹透镜和后置平凸透镜。

所述耐高压透明视窗一侧与前置平凸透镜贴合,另一侧与后置平凹透镜贴合,所述后置平凸透镜位于所述后置平凹透镜之后。

所述耐高压透明视窗为矩形,所述前置平凸透镜和后置平凹透镜与耐高压透明视窗的贴合面均为平面状。

与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:

本实用新型结构简单,使用方便;设有承压装置,能够适用于深海水下摄像;通过增透装置,可以避免深海处光线弱导致的成像不清晰的问题,从而得到高质量的图像。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

附图标记说明:

1、增透装置;2、镜头及主板模块;3、数据控制模块;4、闪光灯模块;5、电源模块;6、承压外壳;7、前置平凸透镜;8、耐高压透明视窗;9、后置平凹透镜;10、后置平凸透镜。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步说明。

一种深海照相装置,包括承压及增透装置,镜头及主板模块2,数据控制模块3,闪光灯模块4,电源模块5,所述承压及增透装置1包括承压外壳6和增透装置1,所述增透装置1安装在所述承压外壳6前端,所述镜头及主板模块2、数据控制模块3、闪光灯模块4和电源模块5依次安装在所述承压外壳6内部。

所述承压外壳6为一个空腔圆形壳体,可以耐45MPa以上的水压;所述承压及增透装置保证在承受45MPa以上压力的同时光线可以正常透过,到达照相机镜头;所述镜头及主板模块2,用于接收数据控制模块的指令,控制实现打开,关闭或拍照;所述数据控制模块3控制镜头和主板工作,并负责存储数据和接收外部指令;所述闪光灯模块4包括闪光灯和闪光灯控制模块,所述闪光灯控制模块用于控制闪光灯闪光量;所述电源模块5与所述镜头及主板模块2、数据控制模块3、闪光灯模块4相连,并用于向所述镜头及主板模块2、数据控制模块3、闪光灯模块4供电。

所述增透装置1包括前置平凸透镜7,耐高压透明视窗8,后置平凹透镜9和后置平凸透镜10。所述耐高压透明视窗8一侧与前置平凸透镜7贴合,另一侧与后置平凹透镜9贴合,所述后置平凸透镜10位于所述后置平凹透镜9之后。

所述耐高压透明视窗8为矩形,所述前置平凸透镜7和后置平凹透镜9与耐高压透明视窗8的贴合面均为平面状。

与现有技术相比,本实用新型具有结构简单、使用方便及拍摄效果好等优点。

以上是对本实用新型进行了示例性的描述,显然本实用新型的实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型技术方案进行的各种改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围内。

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