[实用新型]一种快速软恢复二极管有效
申请号: | 201520989889.0 | 申请日: | 2015-12-03 |
公开(公告)号: | CN205264708U | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
发明(设计)人: | 陈利;徐承福;高耿辉;姜帆 | 申请(专利权)人: | 厦门元顺微电子技术有限公司;大连连顺电子有限公司;友顺科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/868;H01L21/33 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361008 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 快速 恢复 二极管 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种快速软恢复二极管。
背景技术
快恢复二极管(简称FRD)是一种具有开关特性好、反向恢复时间短特 点的半导体二极管,主要应用于开关电源、PWM脉宽调制器、变频器等电子 电路中,作为高频整流二极管、续流二极管或阻尼二极管使用。
快恢复二极管的内部结构与普通PN结二极管不同,它属于PIN结型二极 管,即在P型硅材料与N型硅材料中间增加了基区I,构成PIN硅片。因基 区很薄,反向恢复电荷很小,所以快恢复二极管的反向恢复时间较短,正向 压降较低,反向击穿电压(耐压值)较高。
快速软恢复二极管是PIN型的双极器件,当其处于正向导通状态,即阳 极相对于阴极加正电压时,其阳极和阴极分别向n-区注入空穴和电子,由于 n-区的掺杂浓度很低,注入到n-区的空穴浓度远远大于n-区衬底的掺杂浓 度,n-区产生强烈的电导调制效应,电导率大大提高,使得快速软恢复二极 管的通态压降维持在较低的水平。
实用新型内容
本实用新型为解决上述问题,提供了一种快速软恢复二极管。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:
一种快速软恢复二极管,包括:
一阴极n+区(1);
一p+缓冲区(2),配置于该阴极n+区(1)上;
一n缓冲区(3),配置于该阴极n+区(1)及该p+缓冲区(2)上并覆盖 该p+缓冲区(2);
一n-漂移区(4),配置于该n缓冲区(3)上;
一p基区(5),配置于该n-漂移区(4)上;
一阳极p+区(6),配置于该p基区(5)上。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型在n缓冲区和阴极n+区之间引入p+缓冲区,该结构阴极隐埋 p+缓冲区形成两个背靠背的pn结,而对于n+n结可以将其等效为电阻,故其 阴极等效电路为两个背靠背pn结与电阻的并联;该结构在阴极侧隐埋的p+ 缓冲区,在反向恢复期间可以向n-漂移区注入少数载流子空穴,降低nn+结 处的电场强度,改善反向恢复软度,降低反向恢复峰值功耗,并提高了抗反 向恢复动态动态雪崩能力。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本实用新 型的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并 不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型结构示意图;
图示说明:阴极n+区-1;p+缓冲区-2;n缓冲区-3;n-漂移区-4;p基区-5; 阳极p+区-6。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清 楚、明白,以下结合附图和实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应 当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本 实用新型。
如图1所示,本实用新型提供一种快速软恢复二极管,包括:
一阴极n+区(1);
一p+缓冲区(2),配置于该阴极n+区(1)上;
一n缓冲区(3),配置于该阴极n+区(1)及该p+缓冲区(2)上并覆 盖该p+缓冲区(2);
一n-漂移区(4),配置于该n缓冲区(3)上;
一p基区(5),配置于该n-漂移区(4)上;
一阳极p+区(6),配置于该p基区(5)上。
本实用新型在n缓冲区和阴极n+区之间引入p+缓冲区,该结构阴极隐 埋p+缓冲区形成两个背靠背的pn结,而对于n+n结可以将其等效为电阻, 故其阴极等效电路为两个背靠背pn结与电阻的并联;该结构在阴极侧隐埋的 p+缓冲区,在反向恢复期间可以向n-漂移区注入少数载流子空穴,降低nn+ 结处的电场强度,改善反向恢复软度,降低反向恢复峰值功耗,并提高了抗 反向恢复动态动态雪崩能力。
上述说明示出并描述了本实用新型的优选实施例,如前所述,应当理解 本实用新型并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除, 而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述实用新型构想范围 内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行 的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围,则都应在本实用新型所附权 利要求的保护范围内。
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