[实用新型]一种用于水下环境的承压透镜装置有效

专利信息
申请号: 201520999047.3 申请日: 2015-12-03
公开(公告)号: CN205176357U 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 杨德明 申请(专利权)人: 杨德明
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G03B17/08
代理公司: 长沙市标致专利代理事务所(普通合伙) 43218 代理人: 周正雄
地址: 410000 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 水下 环境 透镜 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及摄像装置领域,具体涉及一种用于水下环境的承压透镜装 置。

背景技术

随着水中兵器、水下作业工具以及各种水下科学考察、水中试验应用的不 断发展,研制高精度水下高速摄像系统的要求日益迫切,高清晰且结构紧凑的 大水深(超过500米)下摄像系统具有广阔的市场。由于水下环境应用的特殊 性,要求在水下(特别是大深度条件下)必须配置专用的能够承受高压的透镜 装置。

目前,现有的水下摄像机透镜装置普遍存在难以耐受深水处的高强度压力 且拍摄的图像不清晰等问题。中国发明专利申请CN104079809A公开了一种深 海水下高清照相系统,通过将移动产业处理器(MobileIndustryProcessor Interface,MIPI)接口的低压差分串口与互补金属氧化物半导体(Complementary MetalOxideSemiconductor,CMOS)技术相结合解决深海中拍摄的图像质量差 和图像传输速度慢的问题。利用背照式CMOS传感器进行图像采集,相比于传 统的电荷耦合器件(ChargeCoupledDevice,CCD)相机能够采集到更具清晰的 深海勘探图像,但由于其没有增强光通量,不能从根源上解决照片清晰度不够 的问题。此外,该装置的耐压问题主要依靠厚度为15~20mm的耐压玻璃,耐压 程度有限。

实用新型内容

针对以上技术缺陷,本实用新型目的在于提供一种用于水下环境的承压透 镜装置,解决水下照相机或摄像机在大水深下摄像装置不能在承受高水压的同 时形成清晰图像的问题。

本实用新型通过以下技术方案实现:

一种用于水下环境的承压透镜装置,包括前置凸凹透镜,后置平凸透镜和 耐高压压力腔,所述前置凸凹透镜和所述后置平凸透镜依次安装在所述耐高压 压力腔前部。所述前置凸凹透镜用于接收光线并加大光通量,所述后置平凸透 镜用于将通过前置凸凹透镜后的光线发散放大,以便照相机或摄像头正常拍摄 物体。

该装置还包括用于密封的O形圈,所述O形圈通过水压挤压O形圈达到密封。

进一步地,所述耐高压压力腔的轴向和径向均设有O形圈。

进一步地,所述前置凸凹透镜顶部设有沟槽,所述O形圈还可以位于所述 前置凸凹透镜顶部沟槽,且所述耐高压压力腔前部锥面与所述前置凸凹透镜锥 面相连接。

进一步地,所述前置凸凹透镜包括大球面和小球面,所述大球面为凸面, 暴露于水中;所述小球面为凹面,位于所述耐高压压力腔内的空气中。

进一步地,所述大球面的球面半径比所述小球面的球面半径大。

与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:

本实用新型结构简单,布局合理;前置凸凹透镜将尽可能多的光线聚集再 通过后置平凸透镜调调整焦点后,使得从而增加到达摄像头或照相机的光通量 增加,使得图像更清晰;前置凸凹透镜的凸面比凹面半径略大,而光线通过前 置凸凹透镜和后置平凸透镜后,所呈现的物体比原物体大小相似或被放大,使 得成像效果更好;装置中设有O形圈用于密封,利用水压挤压实现密封,密封 效果好,进而保证装置使用时的安全可靠。

附图说明

图1为实施例1中用于水下环境的承压透镜装置的主视结构示意图;

图2为沿图1中A-A线的剖视结构示意图;

图3为实施例2中的用于水下环境的承压透镜装置的主视结构示意图;

图4为沿图3中A-A线的剖视结构示意图;

附图标记:1、前置凸凹透镜;2、后置平凸透镜;3、耐高压压力腔。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步说明。

本实用新型装置包括前置凸凹透镜1,后置平凸透镜2和耐高压压力腔3,所 述前置凸凹透镜1和所述后置平凸透镜2依次安装在所述耐高压压力腔3前部。所 述前置凸凹透镜1将尽可能多的光线聚集再通过所述后置平凸透镜2调整焦点 后,光线进入到照相机或摄像头,使得到达摄像头或照相机的光通量增加。

耐高压压力腔3与前置凸凹透镜1之间有两种密封方式:

第一种方式通过在耐高压压力腔3的轴向和径向加O形圈,利用水压挤压O 形圈达到密封,如图1和图2所示;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨德明,未经杨德明许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520999047.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top