[实用新型]一种电极箔化成用电解槽装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及种一种电极箔生产过程中的化成用电解槽装置。

背景技术

电极箔生产过程中化成工序要将电极箔经过含有电解液的电解槽内进行化成，含有电解质的电解液需要在电解槽内进行循环，其目的是利用利用循环泵、加热器、热交换器，有时加装有过滤器，实现电解液在电解槽内进行循环以保持电解液循环均匀、温度稳定，加装过滤器是为了去除电解液中的结晶及杂质颗粒。

现有的电极箔化成用电解槽装置，如图1所示，该装置是方形槽体，槽体底部是水平底面或斜底面，循环进口在槽体的最底部位置。

此装置电解槽如果未加装过滤器，在生产过程中结晶及杂质颗粒多，电极箔与结晶或杂质颗粒挤压会破坏电极箔外观质量产生坑点或裂口，严重的会产生断箔，影响电极箔产品的外观质量，降低产品的成品率和合格率，即使有加装过滤器11用以过滤结晶或杂质颗粒，但一定时期就需要停产对过滤器进行清理维护，停产会大幅增加生产成本和生产效率；同时，在停机清洗电解槽时，由于电解槽槽体底部是水平底面或斜底面，杂质颗粒很难清洗干净，需要进行多次清洗，增加清洗成本的同时降低了清洗效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供了一种无需过滤装置，可自动清除结晶颗粒和杂质的电极箔化成用电解槽装置。

本实用新型的目的通过以下技术方案来具体实现：

一种电极箔化成用电解槽装置，包括槽体1，槽体1上设有循环进口2、循环出口3，循环进口2和循环出口3之间连通有循环管道4，所述循环出口3设于槽体1的上部，所述槽体1的底部设有杂质沉淀装置5，所述沉淀装置5与槽体1连接，形成连通的腔体，所述沉淀装置5呈上口大下口尖的漏斗型，所述沉淀装置的底部设有放液口6。

优选的，所述槽体1呈正方体、长方体或圆柱体结构；进一步优选的，所述槽体1呈正方体或长方体结构。

优选的，所述沉淀装置5为四方锥体结构或圆锥体结构。

进一步优选的，所述沉淀装置5为四方锥体结构。

优选的，所述沉淀装置5的锥角为45°~120°。

进一步优选的，所述沉淀装置5的锥角为60°~90°。

沉淀装置5的设置是利用结晶颗粒和杂质的重力，以及循环电解液在沉淀装置中流体特点，可将结晶颗粒和杂质沉淀于底部。沉淀装置设计成上大下小的缩口四方锥体结构，使循环电解液在其底部的循环量变小，促进结晶颗粒和杂质沉淀。然而，满足上大下小的缩口漏斗型结构，不仅仅限于四方锥体形状，还可以有多面锥形、螺旋锥形等本领域技术人员可以想到一切可达到的本实用新型中沉淀作用的上大下小的缩口结构。

本实用新型的灵魂在于沉淀装置的设置，而对于沉淀装置的锥角的大小，并不是本领域的常规选择，实用新型人经过反复的试验和深入的探索，发现针对用于电极箔化成用电解液循环特点，当锥角过小于45°时，沉淀装置呈细高的形态，不利于实际的生产，为实际的作业带来诸多麻烦和不便，还会给电解液的循环带来困难，使生产成本增加。而当锥角在于120°时，沉淀效果下降。当锥角为45°~120°时，沉淀效果和循环效果均呈现良好结果，当60°~90°时，效果最佳，生产成本最低。

优选的，所述槽体1与沉淀装置5一体成型。

优选的，所述循环进口2设于槽体1的下部。

优选的，所述循环进口2设于槽体1侧壁上距离槽体1与沉淀装置连接处30-50cm处。

现有的化成用电解槽装置，参见图1，循环进口在设计时，尽可能的贴近电解槽底部，有利于电解液充分的循环。本实用新型循环进口2并不采用这样的思路，可是设置于距离槽体1与沉淀装置连接处30-50cm处，沉淀装置的设置，加长了电解液在电解槽中的循环空间，同时利用循环进口2的设计，保证电解液在沉淀装置中循环量更小，有利于结晶颗粒和杂质的沉淀。

优选的，所述循环管道4上与循环进口2连接处依次设有加热器7、循环泵8和热交换器9，加热器7距离循环进口最近。

与现有的相比，此处本实用新型循环管道上可以节省过滤器11的设置，减少了过设备成本，同时也减少了过滤器的清理维护的成本，提高生产效率。

优选的，所述放液口6的连通有放液管道10。

本实用新型原理：