[实用新型]一种抛丸机有效
申请号: | 201521009287.0 | 申请日: | 2015-12-04 |
公开(公告)号: | CN205184553U | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
发明(设计)人: | 杜忠福;杜军;杨德军 | 申请(专利权)人: | 霍山县忠福铸造有限责任公司 |
主分类号: | B24C9/00 | 分类号: | B24C9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 237231 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛丸 | ||
技术领域
本实用新型属于翻砂铸造表面处理技术领域,具体是涉及一种抛丸机。
背景技术
抛丸机是利用抛丸器抛出的高速弹丸清理或强化铸件表面的铸造设 备。抛丸装置能同时对铸件进行落砂﹑除芯和清理。抛丸器是通过一种或 多种砂料来打击金属的表面,消除金属表面的一些附着物,如铁锈,但有 时也通过抛丸碰击来获得一个特定的表面层。抛丸介质可以是各种规格的 砂,碳化硅颗粒、小钢球等。抛丸器抛出的钢砂通过叶片旋转,打击到物 体的表面上。
现有抛丸机存在的问题是:悬挂于挂具上的零部件的表面抛丸处理不 均匀,抛丸效果不好;抛丸过程中,抛丸介质会从抛丸室顶部的缺口中飞 溅出来,容易伤人,还会产生浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种抛丸机,以克服上述技术问题。
本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种抛丸机, 包括抛丸室,抛丸室内设有吊杆,吊杆上竖向分布有若干层放置架,吊杆 顶端设有吊环,吊环上配钩挂有吊钩,抛丸室顶部设有供吊钩通行的缺口, 各层放置架均由相互垂直水平设置的两根横杆构成十字形结构,且相邻层 放置架的对应横杆纵向交错45°;抛丸室内顶部和内侧面均分布有若干个 喷砂口,抛丸室底部与侧壁连接处设倾斜面,倾斜面上设有倾斜的喷砂口; 抛丸室内顶部对应缺口处固定有一套筒,套筒上宽下窄且外侧面呈向下弯 曲弧形。
在上述方案基础上优选,抛丸室包括外壳室、内壳室,外壳室与内壳 室之间形成真空层;吊杆置于内壳室内。
在上述方案基础上优选,内壳室侧壁与顶面连接处设有弧形面。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型提供的抛丸 机,其相邻层放置架的对应横杆纵向交错45°,相邻放置架的两横杆之间 构成米字形结构,这样悬挂的零部件整体趋于均匀分布,因此在抛丸处理 过程中,各零部件表面抛丸处理效果均匀,提高了抛丸质量;同时,抛丸 室内顶部、底部也设有喷砂口,便于提高零部件抛丸处理效果;同时,抛 丸室内底部对应缺口处设套筒,降低抛丸介质从缺口处飞溅出,套筒外侧 面设弧形结构,便于抛丸介质回收,提高抛丸介质利用效率。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图2为本实用新型放置架俯视角度示意图。
图中标号为:1-抛丸室、2-吊杆、3-吊钩、4-缺口、5-放置架、6,6'- 横杆、7-喷砂口、8-套筒、9-外壳室、10-内壳室,11-真空层,12-弧形面。
具体实施方式
为了使本实用新型的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于 明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。
如图1和图2所示,一种抛丸机,包括抛丸室1,抛丸室1内设有吊杆 2,吊杆2上竖向分布有若干层放置架5,本处采用放置架5为四个,吊杆 2顶端设有吊环,吊环上配钩挂有吊钩3,抛丸室1顶部设有供吊钩3通行 的缺口4,各层放置架5均由相互垂直水平设置的两根横杆6、6'构成十字 形结构,且相邻层放置架5的对应横杆纵向交错45°;抛丸室1内顶部和 内侧面均分布有若干个喷砂口7,抛丸室1底部与侧壁连接处设倾斜面,倾 斜面上设有倾斜的喷砂口;抛丸室1内顶部对应缺口4处固定有一套筒8, 套筒8上宽下窄且外侧面呈向下弯曲弧形。
本实用新型提供的抛丸机,其相邻层放置架5的对应横杆纵向交错 45°,相邻放置架5的两横杆6、6'之间构成米字形结构,这样悬挂的零部 件整体趋于均匀分布,因此在抛丸处理过程中,各零部件表面抛丸处理效 果均匀,提高了抛丸质量;同时,抛丸室1内侧壁、顶部、底部也设有喷 砂口7,便于提高零部件抛丸处理效果;同时,抛丸室1内底部对应缺口4 处设套筒8,降低抛丸介质从缺口处飞溅出,套筒8外侧面设弧形结构,便 于抛丸介质回收,提高抛丸介质利用效率。
更好的,抛丸室1包括外壳室9、内壳室10,外壳室9与内壳室10之 间形成真空层11,可以降低抛丸工作时所产生的噪音。吊杆2置于内壳室 10内,内壳室10侧壁与顶面连接处设有弧形面12。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的 优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制, 上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实 用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变 化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型的要求保护范 围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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