[实用新型]用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板有效
| 申请号： | 201521023373.7 | 申请日： | 2015-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN205241785U | 公开（公告）日： | 2016-05-18 |
| 发明（设计）人： | 静福印;陈文浩;刘仁中;张斌 | 申请（专利权）人： | 奥特斯维能源（太仓）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L31/18 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 215434 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 改善 pecvd 镀膜 均匀 挡气板 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板，其特征在于：在管式PECVD炉门（1）外侧添 加挡气板（6），使管内气体流速及分布均匀，所述的挡气板（6）为圆形或方形。
2.根据权利要求1所述的用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板，其特征在于：所述的挡 气板（6）四周弯曲角度为0-60°。
3.根据权利要求2所述的用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板，其特征在于：所述的挡 气板（6）四周弯曲长度为挡气板（6）直径或边长0-1/2。
4.根据权利要求1所述的用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板，其特征在于：所述的挡 气板（6）直径为50-200mm。
5.根据权利要求1所述的用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板，其特征在于：所述的挡 气板（6）与管式PECVD炉门（1）的距离为2-25cm。
6.根据权利要求1所述的用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板，其特征在于：所述的挡 气板（6）与管式PECVD炉门（1）的夹角为45°-135°。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
