[实用新型]一种具有高发光效率的发光二极管有效
申请号: | 201521024108.0 | 申请日: | 2015-12-11 |
公开(公告)号: | CN205303512U | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 林志伟;陈凯轩;张永;卓祥景;姜伟;方天足;陈亮 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/64 | 分类号: | H01L33/64;H01L33/52;H01L33/44 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人: | 江平 |
地址: | 361000 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 发光 效率 发光二极管 | ||
1.一种具有高发光效率的发光二极管,包括衬底,在衬底上依次设置缓冲层、非故意掺杂层、n型导电层、有源区、电子阻挡层、p型导电层、p型欧姆接触层和ITO透明导电层,在n型导电层上连接n电极,在n电极侧面和外延层侧面设置电极隔离层,在p型导电层上连接p电极,在芯片表面设置芯片保护层;其特征在于在朝向缓冲层的衬底表面设置形貌不同的PSS表面图形,在p电极设置区域的衬底上的PSS表面图形较其它区域大,且随着远离p电极设置区域,PSS表面图形呈现渐变减小的规律;在p电极下方设置位错阻挡层,所述位错阻挡层设置在p电极设置区域内的ITO透明导电层以下至部分n型导电层;在位错阻挡层下方设置位错线密集区,所述位错线密集区设置在p电极设置区域内的部分n型导电层以下至非故意掺杂层。
2.根据权利要求1所述发光二极管,其特征在于:所述位错线密集区的面积不超过p电极面积的80%。
3.根据权利要求1所述发光二极管,其特征在于:所述位错阻挡层上表面与p型欧姆接触层齐平。
4.根据权利要求1所述发光二极管,其特征在于:在ITO透明导电层上的p电极区域不超过p电极总面积的10%。
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