[实用新型]基质辅助激光解析离子源进出样装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及基质辅助激光解析（MALDI）离子源技术领域，尤其是涉及一种基质辅助激光解析离子源进出样装置。

背景技术

基质辅助激光解析离子源是对固态样品进行解析的过程，样品在常压下制作，形成固体，经过进样机构进入真空系统，由定位机构进行精确定位，使样品在一个特定的区域内进行解析。解析过程中，激光在极短的时间对样品提供高的能量，对它们进行极快的加热，使离子源中的基质分子能有效地吸收激光的能量，并间接地传给样品分子，样品分子因此得到电离，然后离子在高压作用下进入检测器，完成进样。

基质辅助激光解析（MALDI）离子源进样装置对于整个设备是至关重要的。待测样品（多为生物样品）不能直接从常压环境中在极短的时间内转变为高真空环境，因此进样装置需要保证样品从常压环境逐步进入到高真空环境，让检测样品有个适应过程，这样就不会对样品解析造成大的影响。

为解决上述技术问题，中国实用新型专利（专利号201220117195.4，发明名称《基质辅助激光解析离子源进样装置》）提供了一种多级进样即样品通过第一级进样组件、第二级进样组件和密封门组件的配合，能够将样品从常压环境平稳的送入高真空环境内，使样品在进样中逐渐适应真空度，保证了样品的检测质量。但是，整体结构较为复杂，同时由于各级进样组件均是通过步进电机带动工作，易出现故障，导致生产及使用成本较高。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单，坚固耐用的基质辅助激光解析离子源进出样装置。

为实现上述目的，本实用新型可采取下述技术方案：

本实用新型所述的基质辅助激光解析离子源进出样装置，包括真空密封腔以及设置在所述真空密封腔内沿其水平导轨左右移动的运动平台，在所述运动平台上方设置有用于放置离子源靶板的靶槽，在所述真空密封腔外设置有与其内腔相连通的分子泵；

所述真空密封腔的上盖板一侧开设有与所述靶槽形状相匹配的通槽，位于所述通槽一侧的上盖板板面上铰接的密封压盖内侧开设有用于放置离子源样品的凹槽；

在所述运动平台的顶部对称设置有靶槽定位柱，所述靶槽活动放置在所述靶槽定位柱上；

与所述通槽位置相对应的真空密封腔底板上设置有用于推送和顶起靶槽的推送顶起机构。

所述推送顶起机构包括推送架和顶起架：

所述推送架包括固定在所述真空密封腔底板上的推送架底座，以及对称铰接在所述推送架底座后部向右侧倾斜的的支撑杆，所述支撑杆的顶部水平铰接有托放所述靶槽的托台；所述推送架底座的前部对称铰接有V形结构的定位板，在所述定位板的两侧顶部分别设置有左滚轮和右滚轮；

所述顶起架包括卡放在所述推送架底座后部的基座以及对称设置在所述基座两侧开口向右的U形支杆，在所述基座后部向上延伸设置有纵向支杆，所述U形支杆和纵向支杆之间铰接有两连杆机构，所述两连杆机构中间的连接横轴上套装有顶套，自所述纵向支杆的顶部向右下方延伸设置的框架底部设置有水平挡柱；在所述U形支杆的下部设置有限位开关；

靠近所述推送顶起机构的运动平台底部间隔设置有与两侧所述定位板位置相对应的第一挡块，在两第一挡块之间设置有与所述水平挡柱位置相对应的带有挂钩的第二挡块。

所述密封压盖向外延伸设置有抬压把手。

本实用新型的优点在于以简单的连杆机构实现了离子源靶槽的推送和顶起，利用真空密封腔的上盖板、靶槽和密封压盖之间围成的密封空间作为低真空腔，原有的真空密封腔作为高真空腔，可使样品从常压环境平稳的进入高真空环境，保证了样品的检测质量。

同时，本实用新型结构简单、坚固耐用，使用寿命长，避免了采用步进电机传动带来的故障率较高的缺陷，大大降低了生产和使用成本。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是图1中推送架的结构示意图。

图3是图1中顶起架的结构示意图。

图4是图1中运动平台的结构示意图。

图5~图11是本实用新型的进出样装置工作时运动平台和推送架、顶起架之间的位置关系示意图。

具体实施方式