[实用新型]等离子旋转电极法制备球型金属粉末在线检测系统有效
申请号: | 201521026802.6 | 申请日: | 2015-12-10 |
公开(公告)号: | CN205228995U | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 张春礼;郑德生;蔡小魁 | 申请(专利权)人: | 陕西宇光飞利金属材料有限公司 |
主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 710199 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 旋转 电极 法制 备球型 金属粉末 在线 检测 系统 | ||
技术领域
本实用新型属于球型金属粉末制备在线检测技术领域,具体涉及一种等 离子旋转电极法制备球型金属粉末在线检测系统。
背景技术
在之前的等离子旋转电极法制备球型金属粉末的生产过程中,针对制备 各种不同材质,不同合金成分的球型粉末以及各种粉末、不同粒度分配技术 要求,采用的办法是根据各种材料材质的密度,熔点温度,制粉原料棒的直 径,个机械性能指标物理间性能指标,合金组成成分及用户要求粒度值或粒 度分布范围等,各项指标综合分析,套用经验公式,大致得出制粉时的各项 技术参数,如主轴转数,进给速度,等离子功率参数等,这样生产出的粉末 粒度,有时会有一定的偏差。粒度或偏粗或偏细,粒度范围太宽或者太窄, 都会影响到最终出粉率的高低,尤其震碎一些全新材质的金属材料,或以前 生产经验较少的材料,都会发生这样的问题,如果采用试生产的方法,先生 产几公斤粉末,然后开炉,取样检测的话,则必然浪费掉一炉惰性保护气体, 价值2000-3000元,前期的全部生产准备工序和时间,大约1-2天时间,如自 然冷却时间,重新清理炉体,炉体重密封,重新抽真空,重新冲入惰性气体, 重新调整制粉工艺参数等。这样势必会造成生产成本提高,生产进度滞后。
实用新型内容
为克服上述现有技术缺陷,本实用新型的目的在于提供一种等离子旋转 电极法制备球型金属粉末在线检测系统,包括制粉炉体、采样/摄影室,集粉 桶,观察窗口,摄影机及针孔镜头以及计算机,所述摄影机及针孔镜头连接 计算机,所述制粉炉体底部与采样/摄影室连接并与采样/摄影室导通,集粉 桶设置在采样/摄影室的底部,观察窗口设置在采样/摄影室上,速摄影机及 针孔镜头伸入至观察窗口中。
所述观察窗口为漏斗形,其底部直径与采样/摄影室相同,集粉桶设置成 倒漏斗形,其上部接采样/摄影室。
所述观察窗口与采样/摄影室的连接处外侧周向设置有固定装置,固定装 置的连接端通过上法兰组连接。
所述集粉桶与采样/摄影室的连接处外侧周向设置有固定装置,固定装置 的连接端通过下法兰组连接。
通过以上技术方案,本实用新型采用模块化设置,结构简单,观察方便, 减少了取样时的成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明 白了解,下面结合具体图示进一步阐述本实用新型。
参照图1,本实用新型所提供的一种等离子旋转电极法制备球型金属粉末 在线检测系统,包括制粉炉体1、采样/摄影室3,集粉桶5,观察窗口6,摄影 机及针孔镜头7以及计算机9,所述摄影机及针孔镜头7连接计算机9,所述制 粉炉体1底部与采样/摄影室3连接并与采样/摄影室3导通,集粉桶5设置在采 样/摄影室3的底部,观察窗口6设置在采样/摄影室3上,速摄影机及针孔镜头 7伸入至观察窗口6中。
所述观察窗口6为漏斗形,其底部直径与采样/摄影室3相同,集粉桶5设 置成倒漏斗形,其上部接采样/摄影室3。
所述观察窗口6与采样/摄影室3的连接处外侧周向设置有固定装置,固定 装置的连接端通过上法兰组2连接。
所述集粉桶5与采样/摄影室3的连接处外侧周向设置有固定装置,固定装 置的连接端通过下法兰组4连接。
其工作原理为:在制粉炉体1下部出粉口下端与集粉罐5之间增加一个 采样/摄影室3,采样/摄影室3侧壁上有可密封采样窗口与外界相通。当需要 在线取样时,取样采样窗口密封盖播入高清针孔相机镜头,使用高度相机拍 摄落下来的的粉末颗粒,影像传送至计算机9实时观察分析粉末颗粒的粒度 尺寸、球型率粒度分布情况参数,如果发现满足技术要求,则不需要进行调 整,若发现不满足要求,则可以随时调整,这样,制粉工艺参数保证产品的 合格率,这样将节省很大的生产成本,提高生产效率。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型, 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人 员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其 中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任 何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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