[实用新型]产生第二阶厄米复变函数高斯光束的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学领域，尤其涉及一种产生第二阶厄米复变函数高斯光束的装置。

背景技术

在光学领域中，厄米-高斯光束是指光场满足：

E(x,y,0)=Hm(yw)Hn(yw)exp(-x2+y2w2)]]>

的光束，其中H_m(x)，H_n(y)为厄米多项式，m,n的取值决定厄米高斯光束的形态，可以通过改变m,n的取值来改变厄米高斯光束。

对于厄米高斯光束的研究目前业界一直只停留在实验室中，其应用十分受限。

尤其是，本实用新型的实用新型人发现：目前产生所述厄米高斯光束的装置都具有稳定性差、结构复杂的缺点。

实用新型内容

本实用新型实施例的目的在于提供一种产生第二阶厄米复变函数高斯光束的装置，其具有稳定性好，结构简单的特点。

一种产生第二阶厄米复变函数高斯光束的装置，其包括：

He-Ne激光器，用于发出高斯光束；

准直扩束器，用于对高斯光束进行准直和扩束；

起偏器，用于对扩束后的高斯光束进行处理，得到线偏振高斯光束；

分光棱镜，用于对线偏振高斯光束进行分光处理得到反射光束与透射光束，所述反射光束入射空间光调制器；

计算机，用于向所述空间光调制器输入产生不同种类的第二阶厄米复变函数高斯光束的包含0到255级灰度信息的相位掩膜图，所述相位掩膜图符合公式：