[实用新型]一种石英盖及真空反应腔室有效
| 申请号： | 201521037086.1 | 申请日： | 2015-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN205194654U | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 蒋中伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 石英 真空 反应 | ||
1.一种石英盖，设置于真空反应腔室的上部，其特征在于， 所述石英盖包括石英密封板和石英匀流板，所述石英密封板与所 述真空反应腔室的侧壁和真空反应腔室的底壁围成所述真空反应 腔室的内腔，所述石英匀流板位于所述内腔且在所述石英密封板 的下方，所述石英密封板上设置有进气口，所述石英匀流板具有 至少两个通孔，所述进气口、所述通孔和所述内腔之间连通。
2.根据权利要求1所述的石英盖，其特征在于，所述石英密 封板底部设置有凹槽，所述凹槽用于容纳所述石英匀流板，以在 所述石英密封板与所述石英匀流板之间形成分布工艺气体的气体 匀流层。
3.根据权利要求2所述的石英盖，其特征在于，所述石英匀 流板与所述凹槽的侧壁，或所述真空反应腔室的侧壁固定连接。
4.根据权利要求1所述的石英盖，其特征在于，还包括密封 圈，该密封圈位于所述石英密封板与所述真空反应腔室的侧壁之 间，所述石英密封板和/或所述真空反应腔室的侧壁上设置有用于 容纳所述密封圈的凹槽。
5.根据权利要求1～4任意一项所述的石英盖，其特征在于， 在所述石英匀流板上由中心向外的所述通孔的分布密度由低到 高。
6.根据权利要求1～4任意一项所述的石英盖，其特征在于， 在所述石英匀流板上由中心向外的所述通孔的直径由小到大。
7.根据权利要求1～4任意一项所述的石英盖，其特征在于， 所述通孔为圆柱孔、圆锥孔、台阶孔中的一种或几种。
8.根据权利要求1～4任意一项所述的石英盖，其特征在于， 所述通孔的中心轴与所述真空反应腔室的中心轴平行，或所述通 孔的中心轴由上至下向所述真空反应腔室的外侧倾斜。
9.根据权利要求1～4任意一项所述的石英盖，其特征在于， 所述通孔在所述石英匀流板上均匀分布。
10.一种真空反应腔室，其特征在于，包括权利要求1～9任 意一项所述的石英盖。
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