[实用新型]保护盖以及外观件有效

专利信息
申请号: 201521046937.9 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN205283991U 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 洪文庆;傅旭文;陈富伟;吴振辉 申请(专利权)人: 锐捷科技股份有限公司
主分类号: H05K5/03 分类号: H05K5/03;H04M1/02;G04B37/18;G04G17/08
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马雯雯;臧建明
地址: 中国台湾桃园*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 保护 以及 外观
【权利要求书】:

1.一种保护盖,其特征在于,具有图案结构,所述保护盖包括:

透明板,具有第一表面以及相对于所述第一表面的第二表面,所述透明 板包括多个微结构,其中所述多个微结构凸出于所述第一表面以及所述第二 表面的至少其中之一上,且所述多个微结构排列形成所述保护盖的所述图案 结构。

2.根据权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述多个微结构的高度 落在0.5微米至5微米的范围内。

3.根据权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述多个微结构的间距 落在0.5微米至20微米的范围内。

4.根据权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述透明板的材料包括 蓝宝石、玻璃、透明陶瓷、尖晶石、石英或其组合。

5.根据权利要求1所述的保护盖,其特征在于,所述多个微结构配置于 所述第一表面以及所述第二表面上,所述保护盖还包括半导体发光结构,且 所述半导体发光结构形成于所述第二表面的所述多个微结构上。

6.一种外观件,其特征在于,具有图案结构,所述外观件包括:

透明构件,具有第一表面以及相对于所述第一表面的第二表面,所述透 明构件包括多个微结构,其中所述多个微结构凸出于所述第一表面以及所述 第二表面的至少其中之一上,且所述多个微结构排列形成所述外观件的所述 图案结构。

7.根据权利要求6所述的外观件,其特征在于,所述多个微结构的高度 落在0.5微米至5微米的范围内。

8.根据权利要求6所述的外观件,其特征在于,所述多个微结构的间距 落在0.5微米至20微米的范围内。

9.根据权利要求6所述的外观件,其特征在于,所述透明构件的材料包 括蓝宝石、玻璃、透明陶瓷、尖晶石、石英或其组合。

10.根据权利要求6所述的外观件,其特征在于,所述多个微结构配置 于所述第一表面以及所述第二表面上,所述外观件还包括半导体发光结构, 且所述半导体发光结构形成于所述第二表面的所述多个微结构上。

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