[实用新型]一种接触氧化池

权利要求书

1.一种接触氧化池，其特征在于，包括：池体(1)、填料装置和曝气装 置；

所述池体(1)的下部设有曝气装置，中上部设有填料装置；

所述曝气装置包括多根曝气管(2)，所述曝气管(2)上设有多个曝气头 (3)；所述曝气头(3)为倒锥体，在倒锥体曝气头(3)的侧面开有曝气孔 (3-1)；

所述填料装置包括固定支架(4)、多个安装支架(5)和安装在安装支架 上的填料层(6)，所述固定支架(4)上平行设有多个带有格栅(7-1)的栅 板(7)，相邻两层栅板(7)的格栅(7-1)错位设置；每一个所述安装支架 (5)位于相邻两层栅板(7)之间且滑动固定在所述固定支架(4)上。

2.如权利要求1所述的接触氧化池，其特征在于，所述池体(1)上设 有进水口(1-1)和出水口(1-2)，所述池体(1)的底部为锥形并设有排污 口(1-3)。

3.如权利要求1所述的接触氧化池，其特征在于，所有所述曝气管(2) 相互连通呈环状结构，所述曝气头(3)均布在曝气管(2)上，所述曝气孔 (3-1)的孔径为0.05-0.07mm。

4.如权利要求1所述的接触氧化池，其特征在于，所述栅板(7)的数 目为3-5个。

5.如权利要求1所述的接触氧化池，其特征在于，上层安装支架上填料 层的密度大于下层安装支架上填料层的密度。

6.如权利要求1所述的接触氧化池，其特征在于，所述固定支架(4) 包括两根平行的主支撑杆(4-1)、至少两根连接所述主支撑杆(4-1)的次支 撑杆(4-2)和安装在所述主支撑杆(4-1)和所述次支撑杆(4-2)连接处的 竖向支撑杆(4-3)，所述竖向支撑杆(4-3)紧贴池体(1)内壁。

7.如权利要求1所述的接触氧化池，其特征在于，所述安装支架(5) 包括第一安装支架和平行于所述第一安装支架的第二安装支架，所述第一安 装支架、第二安装支架均为由若干个主安装杆(5-1)和次安装杆(5-2)构 成的网格平面结构；所述第一安装支架和第二安装支架通过竖直安装杆(5-3) 相连。

8.如权利要求7所述的接触氧化池，其特征在于，所述第一安装支架和 第二安装支架形成的网格均为矩形。

9.如权利要求7所述的接触氧化池，其特征在于，所述第一安装支架和 第二安装支架的主安装杆上均间隔设有若干固定器(5-4)，且第一安装支架 和第二安装支架的主安装杆(5-1)上相对应位置处固定器(5-4)的数量相 同，所述填料层(6)固定在所述固定器(5-4)上。