[实用新型]一种用于电路板连续曝光的旋转平台

说明书

技术领域

本实用新型涉及电路板曝光装置，特别是一种用于电路板连续曝光的旋转平台。

背景技术

曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制领域。

在电路板板加工过程中，需要对电路板进行曝光，而目前最常用的曝光方式就是采用曝光机曝光，但是现有的曝光机在曝光时，因为曝光时间不固定，通常导致电路板曝光时间过长或则过短，从而导致电路板曝光的质量不稳定，而且现有的曝光机，如中国专利一种电路板曝光机（CN204740422U），这种曝光机在曝光时，电路板的曝光位置不在一个水平面上，从而导致照射到电路板上的光照强度不一样，从而导致电路板的曝光质量不稳定。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种操作简单、曝光效率高和曝光质量好的用于电路板连续曝光的旋转平台。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种用于电路板连续曝光的旋转平台，它包括一转盘，所述的转盘的下表面上设置有驱动转盘转动的驱动装置，所述的转盘的上表面上设置有两个曝光平台，且两个曝光平台相对于转盘中心对称，所述的曝光平台包括曝光平台座和透明盖，所述的曝光平台座固定安装在转盘上，所述的透明盖与曝光平台座铰接在一起。

所述的曝光平台座的与透明盖通过合页铰接。

所述的曝光平台座上设置有一锲形块，在透明盖上设置有一锲形块相扣的锁紧块，且锁紧块内设置有一扭簧。

所述的透明盖上设置有一打开透明盖的把手。

所述的曝光平台座侧壁上铰接有一气缸，所述的气缸的活塞杆与透明盖的侧壁铰接。

所述的驱动装置为一驱动电机，所述的驱动电机的输出轴与转盘底部固定连接。

本实用新型具有以下优点：本实用新型的旋转平台，设置有两个对称的曝光平台，通过转盘转动，从而实现了一个曝光平台曝光电路板，另一个曝光平台取、放电路板，从而提高了电路板的曝光效率，并且两个曝光平台位于同一水平面上，从而取保了电路板的曝光质量；透明盖与曝光平台座铰接，使得操作人员能够快速的打开透明盖，使得电路板的取放方便。

附图说明

图1为实施例一的俯视示意图

图2为实施例一的主视示意图

图3为实施例二的俯视示意图

图4为实施例二的主视示意图

图5为图4中I处剖视放大示意图

图6为实施例三的俯视示意图

图7为实施例三的主视示意图

图8为图7中的A处放大示意图

图中，1-转盘，2-曝光平台，3-驱动电机，21-曝光平台座，22-透明盖，23-锲形块，24-锁紧块，25-把手，26-气缸。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的描述，本实用新型的保护范围不局限于以下所述：

实施例一：

如图1和图2所示，一种用于电路板连续曝光的旋转平台，它包括一转盘1，所述的转盘1的下表面上设置有驱动转盘1转动的驱动装置，所述的驱动装置为一驱动电机3，所述的驱动电机3的输出轴与转盘1底部固定连接，所述的转盘1的上表面上设置有两个曝光平台2，且两个曝光平台2相对于转盘1中心对称，所述的曝光平台2包括曝光平台座21和透明盖22，所述的曝光平台座21固定安装在转盘1上，所述的透明盖22与曝光平台座21铰接在一起。

在本实施例中，所述的曝光平台座21的与透明盖22通过合页铰接，进一步的，所述的透明盖22上设置有一打开透明盖22的把手25，操作人员抓住把手25，则可很方便的将透明盖22打开，从而实现电路板的放、取。

实施例二：

如图3~图5所示，一种用于电路板连续曝光的旋转平台，它包括一转盘1，所述的转盘1的下表面上设置有驱动转盘1转动的驱动装置，所述的驱动装置为一驱动电机3，所述的驱动电机3的输出轴与转盘1底部固定连接，所述的转盘1的上表面上设置有两个曝光平台2，且两个曝光平台2相对于转盘1中心对称，所述的曝光平台2包括曝光平台座21和透明盖22，所述的曝光平台座21固定安装在转盘1上，所述的透明盖22与曝光平台座21铰接在一起。