[实用新型]一种太阳能电池有效
申请号: | 201521095400.1 | 申请日: | 2015-12-23 |
公开(公告)号: | CN205211767U | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 王成;蒋方丹;金井升;金浩 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 | ||
技术领域
本实用新型属于光伏设备制造技术领域,特别是涉及一种太阳能电池。
背景技术
太阳能是目前国内外大力发展的一种新能源,它利用太阳能电池吸收太 阳能,将其转换为电能,具有非常大的潜力和前途来替代传统能源。在各种 太阳能电池中,硅基太阳能电池占到了市场总份额的90%,然而,较高的生产 成本和低效率一直是困扰硅基电池发展的因素,因此,提高太阳能电池的转 化效率和降低生产成本是限制业界面对的一个巨大挑战。
当太阳光照射到电池表面时,一部分光子照射到表面金属电极上而被反 射掉,这部分是不可避免的,而另一部分光子照射到电池的硅基体上,其中 一些被吸收,另一些会因绒面光滑平整而反射损失掉,因此,一种提高电池 转换效率的方法就是改善太阳能电池的绒面结构,以减少入射光的反射损失。
现有技术中,RIE(ReactiveIonEtching,反应离子刻蚀)技术能够通过 改变电池绒面结构,降低对电池的入射光损失来提高电池的转换效率,然而, 利用该技术制备的绒面结构孔坑比较浅,容易在生产的过程中被磨损或腐蚀 掉,减反射效果不佳。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型提供了一种太阳能电池,增大了表面的凹 坑深度,能够增强对太阳光的吸收,减少因电池绒面表面光滑平整而使反射 光损失,增加入射光在电池里面的光程,提高反射次数,从而提高电池的短 路电流和开路电压,提高了转换效率。
本实用新型提供的一种太阳能电池,包括:
多晶硅片;
所述多晶硅片的上表面设置有具有第一凹坑深度的第一扩散层;
所述第一扩散层的上表面设置有刻蚀层;
所述刻蚀层的上表面设置有具有第二凹坑深度的第二扩散层,所述第二 凹坑深度大于所述第一凹坑深度。
优选的,在上述太阳能电池中,所述第二扩散层的上表面设置有双层氮 化硅膜。
优选的,在上述太阳能电池中,所述双层氮化硅膜的上表面设置有正电 极。
优选的,在上述太阳能电池中,所述多晶硅片的背面设置有背电极。
优选的,在上述太阳能电池中,所述多晶硅片的背面还设置有背电场。
优选的,在上述太阳能电池中,所述多晶硅片和所述背电场之间还设置 有P+层。
本实用新型提供的上述太阳能电池,由于所述多晶硅片的上表面设置有 具有第一凹坑深度的第一扩散层,所述第一扩散层的上表面设置有刻蚀层, 所述刻蚀层的上表面设置有具有第二凹坑深度的第二扩散层,所述第二凹坑 深度大于所述第一凹坑深度,因此能够增加最终形成的绒面的凹坑深度,增 强对太阳光的吸收,减少因电池绒面表面光滑平整而使反射光损失,增加入 射光在电池里面的光程,提高反射次数,从而提高电池的短路电流和开路电 压,提高了转换效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将 对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地, 下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例,对于本领域普通技术人员来 讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种太阳能电池的示意图。
具体实施方式
本实用新型的核心思想在于提供一种太阳能电池,增大了表面的凹坑深 度,增强对太阳光的吸收,减少因电池绒面表面光滑平整而使反射光损失, 增加入射光在电池里面的光程,提高反射次数,从而提高电池的短路电流和 开路电压,提高了转换效率。
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术 方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部 分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通 技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本 实用新型保护的范围。
本申请实施例提供的一种太阳能电池如图1所示,图1为本申请实施例提 供的一种太阳能电池的示意图。该太阳能电池包括:
多晶硅片1,这里选取的多晶硅片1首先要经过清洗,保证其具有清洁的 表面,才能进行后续的步骤;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的