[实用新型]一种用于制备陶瓷的上釉设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制备技术领域,具体涉及一种用于制备陶瓷的上 釉设备。

背景技术

在陶瓷制备过程中需要对陶瓷胚进行上釉处理，现有技术中对陶瓷胚 上釉的装置的结构大多如中国专利文献CN202576265U公开的上釉装置，主 要包括框形支架，设置在支架上的升降机构，设置在升降机构上的储料桶， 储料桶的出料口通过管道连接于喷枪，喷枪滑动设在丝杠平台上。在升降 机构的带动下，储料桶能够沿竖直放置在支架上做升降运动，以改变储料 桶的位置高度。其中，升降机构包括设置在支架底部上的电机，悬挂在支 架的顶部上的滚轮，设置在滚轮上的钢丝，钢丝的一端连接于电机的动力 输出端，另一端穿过滚轮并固定在储料桶上。

但是，上述上釉装置的升降机构，由于储料桶设置在电机的正上方， 在储料桶下降过程中，若控制不及时，储料桶很容易撞击在电机上，对电 机造成一定的损坏，即使在电机上设置弹簧，弹簧的缓冲作用毕竟有限， 还是会损坏电机；另外，仅靠一个钢丝绳来固定储料桶，储料桶容易在空 中晃动，使得储料桶的出料口出料的速度不均匀，造成喷枪将釉料喷到陶 瓷胚上的厚度不均匀，影响陶瓷上釉的效果；在施工过程中，晃动的储料 桶也造成一定的安全隐患。

实用新型内容

因此，本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术上釉装置的 上釉不均匀且安全性低的缺陷，从而提供一种能够改善上釉的均匀性且安 全性高的上釉设备。

为此，本实用新型提供一种用于制备陶瓷的上釉设备，包括

平台，顶部表面上具有安装槽，安装槽的底部具有第一通孔；

储料桶，具有第一进料口和出料口，设置在所述安装槽内，所述出料 口上设置第一管道，所述第一管道穿过所述第一通孔且位于所述平台外；

喷枪，具有第二进料口，所述第二进料口与所述第一管道的远离所述 出料口的一端连接；

支撑架，用于固定所述喷枪；以及

升降机构，用于驱动所述平台、储料桶沿竖直方向上做升降运动；所 述升降机构包括

运动转换组件,用于将电机的水平方向上的运动转换为沿竖直方向上 的运动；

连接杆，沿竖直方向设置，至少4个，顶部固定在所述平台上，底部 连接于运动转换组件；在电机的驱动下，通过运动转换组件使得连接杆带 动平台沿竖直方向上做升降运动，以改变所述储料桶在竖直方向上的高度 位置。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，所述运动转换组件包括

凸轮传动机构，所述连接杆的底部连接于所述凸轮传动机构；

伸缩轴，沿水平方向设置，一端连接于电机的动力输出轴，另一端连 接于所述凸轮传动机构。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，还包括盖体，所述盖体密封设置在 所述第一进料口上。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，所述安装槽开设在所述平台的中间 位置处，且所述连接杆为四个，四个所述连接杆分别设置在所述平台底部 的四个角上。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，还包括搅拌装置，用于搅拌所述储 料桶内的釉料。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，所述搅拌装置包括

搅拌轴，沿竖直方向穿设在所述储料桶的顶部上，底部伸入所述储料 桶的内部；

叶片，若干个，设置在所述搅拌轴的底部上；

驱动器，动力输出轴连接于所述搅拌轴的顶部，驱动所述搅拌轴带动 所述叶片在水平方向上转动。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，所述喷枪滑动连接在所述支撑架上； 所述支撑架具有至少一个滑轨，位于所述滑轨上的至少一个滑块；

所述喷枪固定在滑块上，在滑块的带动下，所述喷枪能够沿着水平方 向移动；还包括

转动件，用于带动待上釉陶瓷胚转动，以使得喷枪的喷嘴能够对待上 釉陶瓷胚进行完整的上釉。

上述的用于制备陶瓷的上釉设备，所述滑块沿X轴方向移动，所述喷 枪的喷嘴朝向Y轴方向，和/或所述滑块沿Y轴方向移动，所述喷枪的喷嘴 朝向X轴方向。

本实用新型提供的技术方案，具有如下优点：