[实用新型]晶圆清洁设备有效
申请号: | 201521140775.5 | 申请日: | 2015-12-31 |
公开(公告)号: | CN205380086U | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
发明(设计)人: | 刘红兵;陈概礼;李祝青 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02;B08B11/02;H01L21/67 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 设备 | ||
1.一种晶圆清洁设备,其特征在于,所述晶圆清洁设备包括:
支撑机构;
抽真空装置,所述抽真空装置包括气管;
支撑台,所述支撑台可旋转地设置在所述支撑机构上,所述支撑台上开设有吸附通孔,所述吸附通孔设置为与所述气管连通,所述支撑台用于支撑晶圆。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述晶圆清洁设备还包括旋转机构,所述旋转机构设置在所述支撑机构上以驱动所述支撑台旋转。
3.根据权利要求2所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述旋转机构包括电机及转轴,所述电机设置为驱动所述转轴旋转,所述转轴与所述支撑台连接设置。
4.根据权利要求3所述的晶圆清洁设备,其特征在于:还包括气动旋转接头;所述转轴沿轴向开设有通孔;所述气动旋转接头、所述抽真空装置的气管分别设置为与所述转轴的通孔连通。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的晶圆清洁设备,其特征在于:还包括清洁组件,所述清洁组件设置在所述支撑机构上,所述清洁组件包括清洁头,所述清洁头与设置在所述支撑台上的晶圆相接触地设置。
6.根据权利要求5所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述清洁头可转动地设置,且所述清洁头的转动方向设置为与所述支撑台的转动方向相反。
7.根据权利要求6所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述清洁头的材质为毛发。
8.根据权利要求6所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述清洁头的直径大于或等于所述支撑台的外接圆的半径。
9.根据权利要求5所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述清洁头相对于所述支撑台可移动地设置。
10.根据权利要求9所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述清洁组件还包括载盘、连接件及驱动装置;所述驱动装置设置在所述支撑机构上,驱动所述连接件移动地设置;所述连接件与所述驱动装置连接且设置为延伸至与所述支撑台相正对;所述载盘设置在所述连接件上;所述清洁头设置在所述载盘上。
11.根据权利要求10所述的晶圆清洁设备,其特征在于:所述驱动装置包括气缸。
12.根据权利要求1所述的晶圆清洁设备,其特征在于:还包括清洗液喷头,所述清洗液喷头对准所述支撑台设置,所述清洗液喷头用于向所述晶圆喷出清洗液;所述清洗液喷头与储液槽连通。
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