[实用新型]聚焦离子束物理气相沉积装置有效
| 申请号： | 201521142110.8 | 申请日： | 2015-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN205275693U | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 孙嵩泉;郭祖华;朱向炜;葛怀庆 | 申请（专利权）人： | 蚌埠雷诺真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/56 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人： | 张建宏 |
| 地址： | 233010 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚焦 离子束 物理 沉积 装置 | ||
【权利要求书】：
1.聚焦离子束物理气相沉积装置，它具有一工艺腔，其特征在于：工艺腔与一靶材传动腔及一基片传动腔连通，靶材传动腔、基片传动腔分别与一装靶腔及一装片腔连通，工艺腔内设有靶托、基片架、掩模板以及具有聚焦模块的离子源，靶材传动腔、基片传动腔内分别设有一真空机械手装置，基片传动腔还与一热处理腔连通，热处理腔中设有基片台及电加热装置。
2.根据权利要求1所述的聚焦离子束物理气相沉积装置，其特征在于：聚焦模块可以是静电透镜或四极透镜或磁透镜，或由它们中的任意两个结合构成，或由它们三个结合构成。
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