[发明专利]旁通止回阀以及具有该旁通止回阀的文丘里装置有效
申请号: | 201580000496.5 | 申请日: | 2015-04-03 |
公开(公告)号: | CN105378358B8 | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | A·尼德特;B·M·格雷琴 | 申请(专利权)人: | 戴科知识产权控股有限责任公司 |
主分类号: | F16K47/04 | 分类号: | F16K47/04;F16K15/02 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所11313 | 代理人: | 郝文博 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 旁通 止回阀 以及 具有 文丘里 装置 | ||
1.一种旁通止回阀,包括:
壳体,其限定了具有第一端口和第二端口的内空腔,所述第一端口和第二端口均与所述内空腔流体连通,并且所述内空腔具有第一座和第二座;以及
密封部件,其位于所述内空腔内,其中所述密封部件能够在抵靠所述第一座的闭合位置与抵靠所述第二座的打开位置之间平移;
其中所述第二座限定了具有预定高度的中间区域的支撑结构、以及具有其高度比所述中间区域的所述预定高度小的下游侧;
其中所述密封部件能够抵靠所述第二座安置,使其下游部分比其上游部分更远离所述第一座一定距离;
其中所述第二座还包括上游侧,所述上游侧的高度比所述中间区域的所述高度小,但比所述下游侧的所述高度大。
2.如权利要求1所述的旁通止回阀,其中所述密封部件能够在抵靠所述第一座的大致平面型闭合位置与抵靠所述第二座的弓形位置之间偏转。
3.如权利要求1所述的旁通止回阀,其中所述支撑结构包括绕着所述第二端口沿周向间隔开地延伸进入所述内空腔的多个指形件,所述多个指形件具有不同的高度;其中至少两个沿直径相对的指形件限定所述中间区域,一个或多个中等高度指形件限定所述上游侧,并且一个或多个较短指形件限定所述下游侧,所述一个或多个中等高度指形件的高度比限定所述中间区域的指形件的总高度小10%至30%;所述一个或多个较短指形件的高度比所述中等高度指形件的高度小。
4.如权利要求1所述的旁通止回阀,其中所述壳体包括延伸到所述内空腔中的销,所述密封部件包括贯通其中的孔,所述壳体的所述销被接纳在所述密封部件的所述孔中,以便使所述密封部件沿着所述销平移。
5.如权利要求1所述的旁通止回阀,其中所述第一座包括第一环状密封压条、以及从所述第一环状密封压条沿径向向内布置的第二环状密封压条。
6.如权利要求3所述的旁通止回阀,还包括一个或多个第四高度指形件,其定位成相对于所述一个或多个中等高度指形件,接近所述一个或多个中等高度指形件的与限定所述中间区域的所述指形件相对的一侧;其中所述第四高度指形件的高度小于所述中等高度指形件的高度,而大于所述一个或多个较短指形件的高度。
7.如权利要求6所述的旁通止回阀,还包括一个或多个第五高度指形件,其定位成相对于所述较短指形件,接近所述较短指形件的与限定所述中间区域的所述指形件相对的一侧;其中所述第五高度指形件具有比所述较短指形件小的高度。
8.一种文丘里装置,包括:
根据权利要求1的旁通止回阀,其控制流经被布置在文丘里间隙的下游且旁通所述文丘里间隙的旁通端口的流体流。
9.如权利要求8所述的文丘里装置,还包括第二止回阀,其控制流经与所述文丘里间隙流体连通的抽吸端口的流体流。
10.如权利要求8所述的文丘里装置,其中所述中间区域具有将所述密封部件定位成比预定距离更靠近所述第一座的高度。
11.如权利要求8所述的文丘里装置,其中所述支撑结构包括绕着所述第二端口沿周向间隔开地延伸进入所述内空腔的多个指形件,所述多个指形件具有不同的高度;其中至少两个沿直径相对的指形件限定所述中间区域,一个或多个中等高度指形件限定所述上游侧,一个或多个较短指形件限定所述下游侧,所述一个或多个中等高度指形件的高度比限定所述中间区域的指形件的总高度小10%至30%;所述一个或多个较短指形件的高度比所述中等高度指形件的高度小。
12.如权利要求11所述的文丘里装置,其中所述一个或多个中等高度指形件定位成比所述较短指形件更接近与所述文丘里间隙流体连通的动力端口,相反地,所述较短指形件定位成更接近与所述文丘里间隙流体连通的排放端口。
13.如权利要求8所述的文丘里装置,其中所述壳体包括延伸进入所述内空腔的销,所述密封部件包括贯通其中的孔,所述壳体的所述销被接纳在所述密封部件的所述孔中,以使所述密封部件沿着所述销平移。
14.如权利要求11所述的文丘里装置,还包括一个或多个第四高度指形件,其定位成相对于所述一个或多个中等高度指形件,接近所述一个或多个中等高度指形件的与限定所述中间区域的指形件相对的一侧;其中所述第四高度指形件的高度小于所述中等高度指形件的高度,而大于所述一个或多个较短指形件的高度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戴科知识产权控股有限责任公司,未经戴科知识产权控股有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580000496.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型绣花针
- 下一篇:直拉式单晶炉用籽晶提升装置