[发明专利]制备偏光板的方法及偏光板

权利要求书

1.一种制造偏光板的方法，所述方法包括：

提供用碘和二向色染料中的一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片；

在所述偏光片的一个表面上配备保护膜和具有6000N以上的抗张强度离型膜；以及

通过使脱色溶液局部接触所述偏光片的另一表面来形成至少一个去偏光区域；并且

在所述去偏光区域的形成之后，利用醇或酸溶液进行清洗，

其中，所述离型膜配备在所述保护膜的与面向所述偏光片的表面相反的表面上，所述去偏光区域在400nm至800nm范围内的波长带处具有80％以上的单体透射率和10％以下的偏光度，且所述去偏光区域的最大凹陷深度为10μm以下。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，至少一个去偏光区域的面积为0.5mm²以上及500mm²以下。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色溶液包含选自氢氧化钠(NaOH)、硫氢化钠(NaSH)、叠氮化钠(NaN₃)、氢氧化钾(KOH)、硫氢化钾(KSH)和硫代硫酸钾(KS₂O₃)中的一种或多种脱色剂。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色溶液的pH为11至14。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色溶液的粘度为1cP至2000cP。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色溶液进一步包含粘度剂。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，基于总重，所述脱色溶液包含1wt％至30wt％的脱色剂、0.5wt％至30wt％的粘度剂和40wt％至70wt％的溶剂，且所述溶剂为水或水和醇的混合溶剂。

8.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

在形成所述去偏光区域之前，在所述偏光片的另一表面上形成包含至少一个穿孔部的掩蔽层。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，在所述掩蔽层的形成中，在掩蔽膜的至少一个区域中形成所述穿孔部，并将所述掩蔽膜贴合于所述偏光片的另一个表面上。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，在所述掩蔽层的形成中，在所述偏光片的另一个表面上形成涂层，并选择性移除所述涂层的至少一个区域以形成所述穿孔部。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述去偏光区域的形成通过浸渍法、分配法、喷墨法或凹版印刷法来进行。

12.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：

在所述去偏光区域的形成之后，移除所述离型膜。

13.一种偏光板，包括：

用碘和二向色染料中的一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片；以及

在所述基于聚乙烯醇的偏光片的至少一个表面上配备的保护膜，

其中所述基于聚乙烯醇的偏光片具有至少一个去偏光区域，所述去偏光区域在400nm至800nm范围内的波长带处具有80％以上的单体透射率和10％以下的偏光度，且所述去偏光区域的最大凹陷深度为10μm以下。

14.根据权利要求13所述的偏光板，其中，至少一个去偏光区域的面积为0.5mm²以上及500mm²以下。

15.根据权利要求13所述的偏光板，其中，所述去偏光区域的算术平均粗糙度Ra为200nm以下。

16.根据权利要求13所述的偏光板，其中，所述去偏光区域的雾度为3％以下。