[发明专利]带抗菌层的基材、抗菌片、放射线摄影装置、触控面板有效
申请号: | 201580002693.0 | 申请日: | 2015-03-26 |
公开(公告)号: | CN105745074B | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 柴田路宏;永崎秀雄;成行书史;白土节子;大谷薰明 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B27/18 | 分类号: | B32B27/18;A01N25/34;A01N59/16;A01P3/00;G06F3/041 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 抗菌 基材 放射线 摄影 装置 面板 | ||
技术领域
本发明涉及带抗菌层的基材、抗菌片、放射线摄影装置及触控面板。
背景技术
大多情况会根据目的对各种制品·构件的表面实施加工而赋予各种功能。其中,近年来,在基材表面设置抗菌层的技术受到注目。
例如,在医疗现场所使用的医疗装置大多连续地接触多个患者。另外,由于触控面板的表面会被不确定的许多操作者直接以手指触碰,因此若细菌等在其表面繁殖,则存在感染疾病的风险。为此,通过在医疗装置等各种装置的表面设置抗菌层,能够降低细菌增殖、疾病感染的风险。
作为此种技术,例如在专利文献1中公开了使银络合物负载于硅胶载体的银系抗菌剂、包含硅胶及有机结合剂的缓释性抗菌材料。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平09-131389号公报
发明内容
发明所要解决的课题
另一方面,近年来,为了进一步提高各种装置(例如医疗装置、触控面板)的使用频率,要求在更短时间内显示抗菌作用。
此外,还要求能够更长时间地维持抗菌作用。
即,要求能够在短时间内显示抗菌作用并且能够长时间维持抗菌性的抗菌层。
本发明人等对专利文献1中记载的带抗菌层的基材进行了研究,结果发现其并不能充分满足上述要件,需要进一步的改良。
本发明的目的在于:鉴于上述实际情况而提供具备能够在短时间内显示抗菌作用并且能够长时间维持抗菌性的抗菌层的带抗菌层的基材。
此外,本发明的目的还在于提供抗菌片、和具备上述带抗菌层的基材的放射线摄影装置及触控面板。
用于解决课题的手段
本发明人等对上述课题进行了深入研究,结果发现能够通过以下的构成来解决上述课题。
(1)一种带抗菌层的基材,其具有基材和配置于基材表面的至少一部分的抗菌层,
抗菌层具有包含银的第1抗菌剂和与上述第1抗菌剂不同的、包含银的第2抗菌剂,
在将每单位面积的抗菌层中所包含的银含量设为P、且将利用后述的提取试验测定的每单位面积的银离子量设为Q时,满足以下的式(1)及式(2)的关系。
式(1)6.0≤P/Q
式(2)15.0≤Q
其中,P的单位为ng/cm2,Q的单位为ng/cm2。
(2)根据(1)所述的带抗菌层的基材,其满足式(3)的关系。
式(3)15.0≤Q≤25.0
(3)根据(1)或(2)所述的带抗菌层的基材,其中,
第1抗菌剂包含银、和选自磷酸锌钙及磷酸钙中的任意一种,
第2抗菌剂包含银、和包括沸石的载体。
(4)根据(1)~(3)中任一项所述的带抗菌层的基材,其中,抗菌层包含具有亲水性基的聚合物。
(5)根据(4)所述的带抗菌层的基材,其中,亲水性基包含聚氧亚烷基。
(6)一种放射线摄影装置,其在表面具有(1)~(5)中任一项所述的带抗菌层的基材。
(7)一种触控面板,其在表面具有(1)~(5)中任一项所述的带抗菌层的基材。
(8)一种抗菌片,其包含抗菌剂,
抗菌剂具有包含银的第1抗菌剂和与第1抗菌剂不同的、包含银的第2抗菌剂,
在将每单位面积的抗菌片中所包含的银含量设为P、且将利用后述的提取试验测定的每单位面积的银离子量设为Q时,满足以下的式(1)及式(2)的关系。
式(1)6.0≤P/Q
式(2)15.0≤Q
其中,P的单位为ng/cm2,Q的单位为ng/cm2。
(9)根据(8)所述的抗菌片,其满足式(3)的关系。
式(3)15.0≤Q≤25.0
(10)根据(8)或(9)所述的抗菌片,其中,
第1抗菌剂包含银、和选自磷酸锌钙及磷酸钙中的任意一种,
第2抗菌剂包含银、和包括沸石的载体。
(11)根据(8)~(10)中任一项所述的抗菌片,其还包含具有亲水性基的聚合物。
(12)根据(11)所述的抗菌片,其中,亲水性基包含聚氧亚烷基。
发明效果
根据本发明,可以提供具备在短时间内显示抗菌作用并且能够长时间维持抗菌性的抗菌层的带抗菌层的基材。
另外,根据本发明,还可以提供抗菌片、和具备上述带抗菌层的基材的放射线摄影装置及触控面板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580002693.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于改良磨损的官能化聚合物掺合物
- 下一篇:用于处理连续片材的方法和设备