[发明专利]图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件在审
| 申请号： | 201580007419.2 | 申请日： | 2015-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN105980936A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 上羽亮介;井口直也;山中司;丹吴直纮;白川三千纮;加藤启太 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 蚀刻 电子元件 制造 | ||
【权利要求书】：
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